- Herausragende Leistung
- Zuverlässig und energieeffizient
- Kompakt und stapelbar
- Geräusch- und vibrationsarm
A 100/200 L
Mehrstufige Roots-Vakuumpumpen
Unsere mehrstufigen Roots-Vakuumpumpen A 100 L und A 200 L sind modernste Lösungen für die Halbleiterindustrie und für leichte Prozesse mit hohem Durchsatz.
Mit ihren kompakten Abmessungen und flexiblen Anschlussoptionen lassen sich diese Vakuumpumpen problemlos in bestehende Systeme integrieren und sind somit die ideale Wahl für Load-Lock- und Transferkammern ebenso wie für alle nicht-korrosiven Anwendungen.
A 100/200 L
Mehrstufige Roots-Vakuumpumpen für leichte Prozesse mit hohem Durchsatz
Vorteile der A 100/200 L
Die A 100 L und A 200 L sind unsere kompakten und stapelbaren mehrstufigen Roots-Vakuumpumpen für die nahtlose Installation in Sub-Floor-Systeme von Halbleiterfabriken. Mit ihrer herausragenden Leistung und Energieeffizienz verarbeiten sie schnell und effizient große Gasmengen in kurzen Evakuierungszyklen. Daraus ergeben sich eine höhere Produktivität und niedrigere Betriebskosten als bei Standard-Vakuumpumpen ihrer Klasse. Dies macht sie zur idealen Lösung für Anwendungen mit hohem Durchsatz, insbesondere in Prozessen der Halbleiter-Produktion.
Die A 100 L bietet schnelle Evakuierungszeiten und optionale Schnittstellen für einfache Steuerung und Überwachung. Die Energiesparversion reduziert den Druck im Verdichtungsraum, wodurch Vibrationen, Geräuschpegel und Stromverbrauch um bis zu 50 % gesenkt werden.
Für Anwendungen, die eine leistungsstärkere Lösung und eine kürzere Evakuierungszeit erfordern, bietet die A 200 L ein höheres Saugvermögen bei noch geringerem Stromverbrauch. Mit identischen Abmessungen und Anschlüssen kann sie die A 100 L problemlos und ohne Änderungen am System ersetzen, wenn eine höhere Leistung benötigt wird. Für die A 200 L ist ein erweitertes EtherCAT-Kommunikationsprotokoll verfügbar, das die Kommunikation mit hochmodernen Technologie-Tools wie dem Equipment in der Halbleiterproduktion ermöglicht.
