- Für anspruchsvolle Prozesse
- Robuste Bauweise
- Großer Temperaturbereich
- Geringer Energieverbrauch
UltiDry
Mehrstufige Roots-Vakuumpumpen
Die mehrstufigen Roots-Vakuumpumpen UltiDry wurden speziell für anspruchsvolle Prozesse in der Halbleiterproduktion entwickelt. Dank ihrer robusten Bauweise bewältigen sie korrosive Gase und aggressive Nebenprodukte mit minimalem Energie- und Wartungsbedarf.
Aufgrund ihrer ölfreien und mehrstufigen Verdichtung eignen sich diese Vakuumpumpen ideal für eine saubere und trockene Vakuumerzeugung in anspruchsvollen Anwendungen, z. B. für die Halbleiterproduktion und Beschichtung.
UltiDry
Die flexible und energiesparende Lösung für Halbleiterprozesse
Vorteile der UltiDry
Die mehrstufigen Roots-Vakuumpumpen UltiDry sind für zuverlässige Leistung unter anspruchsvollsten Industriebedingungen konzipiert. Mit ihrer mehrstufigen Verdichtung sorgen sie für eine saubere, trockene Vakuumerzeugung ohne Kontamination – entscheidend für die sensiblen Prozesse in der Halbleiterindustrie, wie chemische Gasphasenabscheidung (CVD) oder Atomlagenabscheidung (ALD). Selbst bei Exposition gegenüber korrosiven Gasen oder hohen Pulverbelastungen gewährleisten UltiDry Vakuumpumpen eine hohe Verfügbarkeit und konstante Leistung.
Ein patentiertes Spülgasinjektionssystem schützt die Vakuumpumpe vor Verunreinigungen wie Pulverrückständen durch gezieltes Ausspülen. Dies verbessert das Pulvermanagement im Betrieb, minimiert das Kontaminationsrisiko und gewährleistet einen stabilen Betrieb.
Mit ihrer geringen Leistungsaufnahme bieten UltiDry Vakuumpumpen zudem Energieeinsparungen von bis zu 87 % im Vergleich zu Produkten der Mitbewerber. Sie arbeiten zuverlässig über einen großen Temperaturbereich von 50 bis 270 °C und eignen sich daher gut für temperaturempfindliche Prozesse wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD). Eine korrosionsbeständige Beschichtung stellt sicher, dass die Vakuumpumpen aggressive Gase, beispielsweise in Anwendungen wie der chemischen Gasphasenabscheidung, bewältigen können.
