DS 0080/0160 G
Pompe per vuoto a vite a secco
Prestazioni elevate
Design della vite avanzato, eccellenti proprietà di funzionamento, particolarmente indicate per la deposizione chimica in fase di vapore, la lavorazione termica rapida o la deposizione di strati atomici
Efficienza
Basso costo di proprietà, manutenzione minima, lunghi intervalli di assistenza, alta produttività, efficiente raffreddamento ad acqua indiretto, elevata resa di idrogeno
Compattezza
Design perfettamente adattabile, motore a rotore immerso montato direttamente
Specifiche tecniche
Settori e applicazioni
Semiconduttore
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LPCVD/diffusione
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Etching di Si policristallino
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PECVD
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Etching di metallo e dielettrici high K
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ALD