Actualice su navegador. Parece que está utilizando una versión antigua del navegador Microsoft Edge. Para disfrutar de la mejor experiencia con el sitio web de Pfeiffer, actualice su navegador.

ATP 1603 M

Bombas de vacío turbomoleculares

Silenciosas

Bajo nivel de vibración y ruido, perfectas para aplicaciones sensibles a las vibraciones en procesos de fabricación de semiconductores e instrumentos analíticos

Versátiles

Compatibles con una variedad de bombas primarias, excelente relación de compresión para gases ligeros

Libres de mantenimiento

Sin piezas de desgaste gracias a la tecnología de rodamiento magnético, largos intervalos de mantenimiento

Especificaciones técnicas

Mercados y aplicaciones

Automoción y transporte
  • Investigación espacial
Pantalla
  • Deposición física de vapor (PVD)
I+D
  • Física de alta energía
  • Investigación fotónica
  • Investigación espacial
  • Ultra vacío
  • Física del plasma
Semiconductores
  • LPCVD / difusión
  • PVD
  • Inspección y metrología
  • Si Poly etch
  • Deposición ligera
  • Implantación de iones
  • PECVD
  • Litografía
  • Metal y grabado de alta K
  • Grabado por óxido
  • bloqueo de carga/de transferencia
  • Cobalto, WCVD, TiN y TDMAT
  • ALD

Accesorios

  • Kit de instalación
  • Válvula de agua de refrigeración
  • Válvula de inyección de gas
  • Controlador remoto
  • Pantalla de protección de entrada
  • Unidad calefactora
  • Cable y bobina de la válvula
  • Varios tipos de bridas de entrada
  • Diversas interfaces de usuario
Comprar accesorios