DS 0700–2000 G
Bombas de vacío de tornillo en seco
Alto rendimiento
Diseño de tornillo avanzado, excelentes cualidades de funcionamiento, booster de vacío integrado, perfectas para la deposición química de vapor, los tratamientos térmicos rápidos o la deposición de capas atómicas
Eficientes
Coste de propiedad reducido, mantenimiento mínimo, largos intervalos entre servicios, alto tiempo de actividad. eficaz refrigeración por agua indirecta, gran capacidad de hidrógeno
Compactas
Diseño adaptable a cada instalación, motor sellado montado directamente, bomba primaria y booster de vacío combinados sobre una bancada compacta
Especificaciones técnicas
Mercados y aplicaciones
Pantalla
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Deposición física de vapor (PVD)
Semiconductores
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LPCVD / difusión
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Si Poly etch
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PECVD
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Metal y grabado de alta K
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ALD
Solar
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Fabricación de células solares
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Extracción de lingotes