A 100/200 L

Las A 100 L y A 200 L son nuestras bombas de vacío roots multietapa compactas y apilables, diseñadas para una instalación perfecta en sistemas subterráneos de fábricas de semiconductores. Gracias a su excepcional rendimiento y eficiencia energética, procesan grandes volúmenes de gas de forma rápida y eficiente durante ciclos de evacuación rápidos, lo que se traduce en una mayor productividad y menores costes de funcionamiento en comparación con las bombas de vacío estándar de su clase. Esto las convierte en una solución ideal para aplicaciones con un alto rendimiento, especialmente en procesos de fabricación de semiconductores.

La A 100 L ofrece tiempos de evacuación rápidos e interfaces opcionales para facilitar el control y la monitorización. La versión de ahorro energético reduce la presión dentro de la cámara de compresión, lo que reduce las vibraciones, los niveles de ruido y el consumo de energía hasta en un 50 %.

Para aplicaciones que requieren una solución más potente y un tiempo de evacuación más rápido, la A 200 L ofrece un mayor caudal y reduce aún más el consumo eléctrico. Con las mismas dimensiones y conexiones, puede sustituir fácilmente a la A 100 L cuando se requiere un mayor rendimiento, sin modificaciones del sistema. La A 200 L dispone de un protocolo de comunicación EtherCAT mejorado que permite la comunicación con herramientas de tecnología de última generación, como equipos de fabricación de semiconductores.