- Para procesos exigentes
- Diseño robusto
- Amplio rango térmico
- Bajo consumo energético
UltiDry
Bombas de vacío roots multietapa
Las bombas de vacío roots multietapa UltiDry están especialmente diseñadas para procesos exigentes en la fabricación de semiconductores. Su construcción robusta les permite manejar gases corrosivos y subproductos agresivos, a la vez que requieren una energía y un mantenimiento mínimos.
Gracias a su compresión multietapay libre de aceite, estas bombas de vacío son ideales para la generación de vacío limpio y seco en aplicaciones de semiconductores, recubrimientos y otros entornos exigentes.
UltiDry
La solución flexible y de ahorro energético para procesos de semiconductores
Beneficios de UltiDry
Las bombas de vacío roots multietapa UltiDry están diseñadas para funcionar de forma fiable en los entornos industriales más exigentes. Su compresión multietapa garantiza una generación de vacío limpia y seca sin contaminación, algo crucial para los procesos sensibles de la industria de los semiconductores, como el vapor químico o la deposición de capas atómicas. Incluso cuando están expuestas a gases corrosivos o a cargas pesadas de polvo, las bombas de vacío UltiDry mantienen un alto tiempo de actividad y un rendimiento constante.
Un sistema patentado de inyección de purga protege la bomba de vacío eliminando contaminantes como el polvo. Esto mejora la gestión del polvo durante el funcionamiento, lo que minimiza el riesgo de contaminación y garantiza un funcionamiento estable.
Con su bajo consumo, las bombas de vacío UltiDry también ofrecen un ahorro de energía de hasta el 87 % en comparación con los productos de la competencia. Funcionan de forma fiable en un amplio rango de temperatura de 50 a 270 °C, lo que las hace adecuadas para procesos sensibles a la temperatura, como la deposición física del vapor. Un recubrimiento anticorrosión garantiza que las bombas de vacío puedan manejar gases agresivos en aplicaciones como la deposición química de vapor.
