- Pour les procédés difficiles
- Conception robuste
- Large plage thermique
- Faible consommation d’énergie
UltiDry
Pompes à vide roots multi-étagé
Les pompes à vide roots multi-étagé UltiDry sont spécialement conçues pour les procédés exigeants dans la fabrication de semi-conducteurs. Leur structure robuste leur permet de traiter des gaz corrosifs et des sous-produits agressifs tout en nécessitant un minimum d’énergie et de maintenance.
Grâce à leur compression sans huile et à plusieurs étages, ces pompes à vide sont idéales pour la génération de vide propre et sec dans les applications de semi-conducteurs, de revêtement et autres environnements exigeants.
UltiDry
Avantages d'UltiDry
La conception des pompes à vide roots multi-étagé UltiDry garantit des performances fiables dans les environnements industriels les plus difficiles. Leur compression à plusieurs étages garantit une génération de vide propre et sec sans contamination, ce qui est essentiel pour les procédés sensibles dans l’industrie des semi-conducteurs tels que le dépôt chimique en phase vapeur ou en couche atomique. Même lorsqu’elles sont exposées à des gaz corrosifs ou à de fortes charges de poudre, les pompes à vide UltiDry maintiennent un temps de disponibilité élevé et des performances constantes.
La pompe à vide est protégée par un système breveté d’injection de purge qui élimine les contaminants tels que la poudre. Cela améliore la gestion de la poudre pendant le fonctionnement, minimisant le risque de contamination et garantissant un fonctionnement stable.
Grâce à leur faible consommation électrique, les pompes à vide UltiDry offrent également des économies d’énergie allant jusqu’à 87 % par rapport aux produits des concurrents. Elles fonctionnent de manière fiable sur une large plage de température de 50 à 270 °C et sont donc parfaitement adaptées aux procédés sensibles à la température tels que le dépôt physique en phase vapeur. Un revêtement résistant à la corrosion garantit que les pompes à vide peuvent traiter des gaz agressifs dans des applications telles que le dépôt chimique en phase vapeur.