Aggiornate il browser. Sembra che sia installata una versione obsoleta del browser Microsoft Edge. Per ottenere la migliore esperienza con il sito web Pfeiffer, aggiorna il tuo browser.

BC 0601–1200 A/G

Pompe per vuoto a vite a secco

Prestazioni elevate

Design della vite avanzato, struttura a forma di campana, viti brevettate con bilanciamento automatico, eccellenti proprietà di funzionamento, booster per vuoto integrato, particolarmente indicata per processi di deposizione di strati atomici a freddo, compartimenti di carico e camere di trasferimento, metrologia, litografia, deposizione fisica in fase di vapore e ricottura termica rapida e processi di incisione come ossido, silicio e metallo

Efficienti

Basso costo di proprietà, manutenzione minima, lunghi intervalli di assistenza, alta produttività, raffreddamento ad acqua diretto

Compattezza

Design perfettamente adattabile, motore a rotore immerso montato direttamente, pompa per vuoto iniziale e booster per vuoto combinati su un telaio compatto

Specifiche tecniche

Settori e applicazioni

Semiconduttore
  • Strippaggio/incenerimento
  • PVD
  • Etching di Si policristallino
  • Deposizione leggera
  • Impianto ionico
  • Etching di metallo e dielettrici high K
  • Mordenzatura con ossido
  • Cobalto, WCVD, TiN e TDMAT
  • Ricottura