Booster per vuoto multistadio

Booster per vuoto multistadio per applicazioni pulite

I booster per vuoto multistadio di Pfeiffer combinano un'eccezionale robustezza e un'elevata affidabilità. Sono ideali per applicazioni che richiedono un vuoto pulito, privo di olio e particelle, come nella produzione di semiconduttori o nel rivestimento sottovuoto.

Soluzioni ideali per applicazioni di vuoto pulito

La serie ACP, le pompe A 100 L e A 200 L e le pompe TORRI BD sono soluzioni all'avanguardia progettate appositamente per processi puliti che richiedono elevata purezza e affidabilità.

Con il suo variatore di velocità, il sistema di raffreddamento ad aria e i requisiti di manutenzione minimi grazie alla calibrazione di precisione degli ingombri che garantiscono cicli di lavorazione senza contatto, la serie ACP offre prestazioni costanti e durata utile. Queste caratteristiche consentono alle pompe per vuoto di funzionare in modo efficiente in più versioni. Ciascuna è ottimizzata per applicazioni specifiche: dalla movimentazione di gas puliti e non corrosivi al trattamento di tracce di gas corrosivi. Una valvola zavorratrice all'interno dell'ACP migliora il pompaggio di gas leggeri e previene la condensa all'interno della pompa. Insieme, queste qualità rendono la serie ACP ideale per i processi del vuoto a secco in settori come la produzione di semiconduttori, il settore medicale e farmaceutico e la R&D.

Le serie A 100 L e A 200 L presentano un design compatto e opzioni di collegamento flessibili con ingressi orizzontali o verticali, consentendo una perfetta integrazione nei sistemi esistenti. Grazie alle eccezionali prestazioni e all'efficienza energetica, sono in grado di processare rapidamente grandi volumi di gas, consentendo cicli di messa in vuoto rapidi e frequenti nelle camere di carico e nelle camere di trasferimento.

Un'altra soluzione per le camere di carico è rappresentata dalle pompe per vuoto compatte TORRI BD. Combinano elevata efficienza energetica, bassa pressione assoluta nominale, grazie al loro comprovato principio operativo, e i migliori tempi di svuotamento della camera.

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Booster per vuoto multistadio per applicazioni chimiche gravose

Nei processi di rivestimento e dei semiconduttori, esistono applicazioni gravose o estremamente gravose, come la deposizione chimica da vapore (CVD), che richiedono l'uso di sostanze chimiche altamente corrosive e aggressive. Ciò impone requisiti altrettanto elevati alla protezione contro la corrosione e alla regolazione della temperatura delle pompe per vuoto.

Pompe a secco altamente affidabili per processi chimici gravosi

I nostri booster per vuoto multistadio della serie A4 offrono una soluzione altamente affidabile ed efficiente per processi che coinvolgono gas corrosivi e sostanze chimiche aggressive. Grazie all'uso di materiali resistenti alla corrosione, queste pompe per vuoto sono ideali per la movimentazione di gas corrosivi, fornendo prestazioni costanti e affidabili. Ideale per applicazioni esigenti come l'incisione di semiconduttori, la deposizione chimica da vapore (CVD) e altri processi chimici gravosi, la serie A4 garantisce cicli di lavorazione affidabili e un'eccezionale durata utile.

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Un booster per vuoto multistadio è una pompa volumetrica progettata per fornire un vuoto pulito e senza olio. Il mezzo trasferito attraversa diversi stadi. In ogni stadio, almeno due lobi a rotazione contrapposta trasportano il mezzo fino all'espulsione nell'ultimo stadio. Utilizzando più stadi collegati in serie, la pompa raggiunge pressioni differenziali più elevate e pressioni assolute nominali inferiori rispetto a un booster per vuoto.

Il loro design robusto, combinato a rivestimenti anticorrosione, rende i booster per vuoto multistadio, come quelli della serie A4 di Pfeiffer, altamente resistenti a gas e particelle aggressivi. Grazie a queste caratteristiche, sono ideali per applicazioni esigenti che richiedono vuoto pulito e secco, come la produzione di semiconduttori, il rivestimento sotto vuoto, l'analisi e R&D.

Un booster per vuoto multistadio comprende più stadi disposti in serie. Ogni stadio contiene lobi rotanti che trasportano il mezzo trasferito attraverso la pompa. I canali di trasferimento regolano il flusso del mezzo tra gli stadi e un riduttore sincronizza il movimento dei lobi per evitare il contatto tra loro o con l'alloggiamento.

Il principio operativo può essere spiegato in tre fasi:

1. Ingresso (primo stadio):

2. Compressione multistadio:


3. Uscita (ultimo stadio):

I booster per vuoto multistadio sono progettati appositamente per gestire un'ampia gamma di sostanze chimiche, comprese quelle corrosive e aggressive. Da acidi e solventi a gas e vapori, queste pompe gestiscono in modo efficiente e affidabile un'ampia gamma di composti chimici. La serie A4 di Pfeiffer è caratterizzata da una struttura particolarmente robusta e da materiali resistenti alla corrosione, come gli speciali rivestimenti anticorrosione. Insieme alle funzioni di regolazione della temperatura, come i riscaldatori integrati, contribuiscono a prevenire la condensa e le reazioni chimiche indesiderate, come la creazione di sottoprodotti.

Il tipo di booster per vuoto multistadio richiesto dipende dal processo specifico in cui deve essere utilizzato. Le diverse applicazioni sono esigenti in termini di capacità di aspirazione, pressioni assolute nominali, flusso in ingresso e capacità di movimentazione dei gas. Ad esempio, nella produzione di semiconduttori, i booster per vuoto multistadio compatti ad alta portata sono preferibili per cicli di messa in vuoto rapidi. Al contrario, gli analizzatori di superficie e i rilevatori di perdite possono richiedere versioni con specifiche opzioni di interfaccia gas. Inoltre, negli acceleratori di particelle, i modelli con resistenza alle radiazioni sono essenziali. Pertanto, comprendere le esigenze specifiche di ogni applicazione è fondamentale per scegliere il booster per vuoto multistadio più adatto per garantire prestazioni ed efficienza ottimali.

I booster per vuoto multistadio di Pfeiffer soddisfano i rigorosi requisiti dei processi di rivestimento, rendendoli una scelta eccellente per queste applicazioni.

1. Vuoto pulito e secco: i booster per vuoto multistadio generano un vuoto pulito e secco, essenziale per il processo di rivestimento al fine di prevenire la contaminazione.

2. Elevata affidabilità: il loro ciclo di lavorazione senza contatto riduce al minimo l'usura e garantisce prestazioni costanti per periodi prolungati, cosa particolarmente importante per il processo di rivestimento in cui la stabilità di processo e l'operatività sono fondamentali.

3. Elevata efficienza energetica: molti modelli dei nostri booster per vuoto multistadio sono dotati di variatori di velocità che permettono di ridurre il consumo di energia. Ciò è particolarmente importante nei processi di rivestimento che spesso funzionano in modo continuo o in cicli lunghi. In questo caso, i risparmi energetici possono avere un impatto significativo sui costi di esercizio complessivi.

4. Durata utile: queste pompe per vuoto sono progettate per gestire gas corrosivi e condensa. Ad esempio, l'ACP 120 G è dotata di un sistema valvola zavorratrice ad azoto e la serie A4 è dotata di un rivestimento anticorrosione, ideale per il processo di rivestimento in cui vengono utilizzate sostanze condensabili o aggressive.

5. Design compatto: i booster per vuoto multistadio compatti come i TORRI BD, A 100 L e A 200 L possono essere facilmente integrati nei sistemi per semiconduttori esistenti. Questo ingombro ridotto è particolarmente vantaggioso nei lavori di rivestimento in cui lo spazio è limitato.

Sia i booster per vuoto che che i booster per vuoto multistadio funzionano secondo lo stesso comprovato principio Roots, utilizzando almeno due lobi a rotazione contrapposta per trasportare il mezzo trasferito attraverso il sistema. Tuttavia, differiscono nel design e nel funzionamento:

un booster per vuoto utilizzato in combinazione con una pompa per vuoto iniziale aumenta la capacità di aspirazione e migliora le prestazioni di un sistema per vuoto. A differenza di una pompa per vuoto convenzionale, non comprime internamente il mezzo trasferito. Invece, trasferisce il mezzo a una pompa per vuoto iniziale, dove ha luogo la compressione effettiva.

Al contrario, i booster per vuoto multistadio sono costituiti da diversi stadi collegati in serie. Prima di uscire dalla pompa, il mezzo trasferito all'interno della camera di compressione viene compresso gradualmente attraverso gli stadi.