- Per processi gravosi
- Design robusto
- Ampio intervallo termico
- Basso consumo di energia
UltiDry
Pompe per vuoto roots multistadio
Le pompe per vuoto roots multistadio UltiDry sono progettate appositamente per gli esigenti processi nella produzione di semiconduttori. La loro struttura robusta consente loro di gestire gas corrosivi e sottoprodotti aggressivi con un minimo di energia e manutenzione.
Grazie alla loro compressione multistadio e senza olio, queste pompe per vuoto sono ideali per la generazione di vuoto pulito e secco in applicazioni per semiconduttori, rivestimenti e altri ambienti esigenti.
UltiDry
Vantaggi di UltiDry
Le pompe per vuoto roots multistadio UltiDry sono progettate per funzionare in modo affidabile negli ambienti industriali più difficili. La loro compressione multistadio garantisce una generazione di vuoto pulito e secco senza contaminazione, fondamentale per processi sensibili nel settore dei semiconduttori, come il vapore chimico o la deposizione a strato atomico. Anche quando sono esposte a gas corrosivi o a pesanti carichi di polveri, le pompe per vuoto UltiDry mantengono un'alta produttività e prestazioni costanti.
Un sistema di iniezione di spurgo brevettato protegge la pompa per vuoto eliminando i contaminanti, come ad esempio la polvere. Ciò migliora la gestione delle polveri durante il funzionamento, riducendo al minimo il rischio di contaminazione e garantendo un funzionamento stabile.
Grazie al basso consumo energetico, le pompe per vuoto UltiDry offrono anche risparmi energetici che arrivano fino all'87% rispetto ai prodotti della concorrenza. Funzionano in modo affidabile in un ampio intervallo di temperatura compreso tra 50 e 270 °C, rendendole adatte a processi sensibili alla temperatura come la deposizione fisica in fase di vapore. Un rivestimento resistente alla corrosione garantisce che le pompe per vuoto possano gestire gas aggressivi in applicazioni come la deposizione chimica in fase di vapore.