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多級魯式真空泵浦

潔淨真空產生的可靠解決方案

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的多級魯式真空泵浦採用精密設計的葉片轉子運作,彼此間無接觸也不會與外殼接觸。這種設計使壓縮室無需使用潤滑劑,確保乾式無油真空產生,使多級魯式真空泵浦成為需要潔淨真空的各種應用的完美選擇,例如半導體製造、真空鍍膜或化學和製藥製程。
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Pfeiffer 多級魯式真空泵浦類型

多級魯式真空泵浦可實現低至 10 -4 hPa (mbar) 的極限低壓。非接觸式操作免除潤滑需求,確保真空產生過程無油無顆粒,非常適合潔淨乾式真空製程,例如半導體製造、真空鍍膜或化學和製藥產業。得益於堅固耐用設計,此類真空泵浦使用壽命長,維護需求最低。特製款採用先進的保護鍍膜材料,增強腐蝕性環境下的氣體相容性,因此適用於嚴苛製程和高價值氣體管理應用,例如多晶矽蝕刻或化學氣相沉積 (CVD)。

我們的多級魯式真空泵浦符合國際標準,包括 CE、UL/CSA 和 SEMI S2 認證。

適用於潔淨應用

適用於潔淨應用的多級魯式真空泵浦

Pfeiffer 多級魯式真空泵浦兼具卓越耐用性與高度可靠性。它們尤其適合需要乾淨、無油和無顆粒真空的應用,例如半導體製造或真空鍍膜。

潔淨真空應用的理想解決方案

ACP 產品系列、A 100 L 和 A 200 L 以及 TORRI BD 真空泵浦是先進的解決方案,專為要求高純度和可靠性的潔淨製程設計。

ACP 產品系列配備變速驅動、風冷系統,並且精密校準間隙可確保非接觸運轉,因此維護需求極低,帶來始終如一的效能和耐用性。這些功能讓真空泵浦在多種配置下高效運作。每款皆針對特定應用予以優化:從處理潔淨的非腐蝕性氣體到處理微量腐蝕性氣體的製程。ACP 內的氣鎮閥門可改善輕質氣體的抽氣,防止泵內冷凝。這些特性使 ACP 產品系列成為半導體製造、醫藥和研發等產業乾式真空處理法的理想選擇。

A 100 L 和 A 200 L 產品系列採用輕巧型設計,提供帶水平或垂直入口的靈活連接選項,可無縫整合至現有系統。憑藉卓越效能和能效,其能夠快速處理大量氣體,在預真空鎖腔體和傳遞室中實現快速且頻繁的泵回製程。

另一種用於預真空鎖腔體的解決方案為精巧的 TORRI BD 真空泵浦。其綜合高能效、久經驗證的操作原理帶來的極限低壓,以及同級最佳的腔體抽真空時間。

了解所有應用

適用於嚴苛的化學應用

適用於嚴苛化學應用的多級魯式真空泵浦

在半導體和鍍膜工藝中,存在嚴苛與極嚴苛應用,例如化學氣相沉積 (CVD) 等需要使用高度腐蝕性和侵蝕性化學品的應用。這也對真空泵浦的防腐蝕保護和溫度控制提出極高要求。

適用於嚴苛化學工藝的高度可靠乾式泵浦

A4 產品系列多級魯式真空泵浦為涉及腐蝕性氣體和腐蝕性化學品的製程提供高度可靠的高效解決方案。由於採用防腐蝕材料,這些真空泵浦非常適用於處理腐蝕性氣體,同時提供始終如一的可靠效能。A4 產品系列是半導體蝕刻、化學氣相沉積 (CVD) 和其他嚴苛化學工藝等高要求應用的理想選擇,確保可靠運作和卓越耐用性。

了解所有應用

產品
額定抽氣速率範圍
A100L/A200L
100 m3/h - 200 m3/h
ACP
15 m3/h - 90 m3/h
TORRI
100 m3/h - 600 m3/h
UltiDry
1,200 m3/h - 3,000 m3/h
A4
110 m3/h - 3,000 m3/h

應用

多級魯式真空泵浦廣泛用於各種產業,在諸多高科技應用中扮演著關鍵角色。其重要性尤其體現於半導體製造,為預真空鎖腔體、傳遞室和製程腔體中產生所需之真空環境。同時也助力表面分析儀、檢漏儀或顆粒加速器的操作。其還用於實驗室或各種乾燥和潔淨應用,如真空鍍膜或等離子體清潔——任何需要潔淨可靠真空之處。

每項應用皆具獨特性——真空解決方案亦然。聯絡我們的專家,助您找出最適合特定需求的解決方案。

找不到您的應用?試試我們的產品查詢器,探索更多客製化選項!

常見問題

多級魯式真空泵浦是什麼?

多級魯式真空泵浦是一種正排量真空泵浦,專為提供潔淨無油的真空而設計。泵送介質會通過多個級別。在每個級別中,至少兩個反向旋轉葉片轉子向前輸送介質,直到被排至最終級。透過使用串聯的多級產品系列,真空泵浦可達到比真空助力器更高的壓差與更低的極限壓力。

Pfeiffer A4 產品系列等多級魯式真空泵浦兼具堅固耐用設計和防腐蝕鍍膜,對腐蝕性氣體和顆粒具有高度耐抗性。鑒於這些特性,其適合需要潔淨乾式真空的高要求應用,例如半導體製造、真空鍍膜、分析和研發。

多級魯式真空泵浦如何運作?

多級魯式真空泵浦由多個串聯級組成。每級均設有迴轉葉片轉子,可透過泵浦輸送泵送介質。傳遞通道調節各級之間的介質流量,齒輪單元同步葉片運動,以防止彼此之間或與外殼接觸。

操作原理可分三個步驟解釋:

1. 入口(第一級):

  • 泵送介質經由入口進入真空泵浦。
  • 葉片轉子以相反方向同步旋轉,而不會相互接觸或接觸外殼,因此無需潤滑。
  • 旋轉形成腔體,可捕獲泵送介質並運輸至下一級。

2. 多級壓縮:

  • 介質在通過每個級別時逐漸壓縮。
  • 各級傳遞通道將壓縮介質釋放到下一級。

3. 出口(末級):

  • 在末級,介質完成最終壓縮,並透過出口從泵浦排出。

多級魯式真空泵浦是否具有耐化學性?

多級魯式真空泵浦專為處理各種化學品設計,包括腐蝕性和侵蝕性物質。從酸性物質和溶劑到氣體和蒸汽,這些泵浦能有效可靠地處理多種化學復合物。Pfeiffer A4 產品系列採用特別堅固的結構和防腐蝕材料,例如特殊的防腐蝕鍍膜。搭配整合式加熱器等溫度控制功能,有助於防止冷凝和不良化學反應,例如產生副產物。

如何選擇合適的乾式真空泵浦?

所需多級魯式真空泵浦類型取決於應當使用的特定製程。不同應用需要不同抽氣速率、極限壓力、進氣流量和氣體處理能力。例如,在半導體製造中,通常偏好具有高流通量的精巧多級魯式真空泵浦,實現快速泵回循環。與之相反,表面分析儀和檢漏儀可能需要具有特定氣體埠選項的版本。而在顆粒加速器中,具有抗輻射性的型號至關重要。因此,了解每個應用的獨特要求,對選擇最適合的多級魯式真空泵浦以確保最佳效能和效率至關重要。

為何 Pfeiffer 多級魯式真空泵浦非常適用於鍍膜工藝?

Pfeiffer 多級魯式真空泵浦可滿足鍍膜工藝的嚴苛要求,是這些應用的絕佳選擇。

1. 潔淨乾式真空:多級魯式真空泵浦可產生潔淨乾式真空,這對鍍膜工藝中避免汙染至關重要。

2. 高可靠性:非接觸式運作將磨損降至最低,並確保長時間保持一致效能,這對於注重製程穩定性與持續正常運行的鍍膜工藝尤其重要。

3. 高能效:多級魯式真空泵浦的諸多型號配備變速驅動,從而降低耗能量。這對經常連續或長週期運行的鍍膜工藝中特別關鍵。在此,節約能源顯著影響整體運作成本。

4. 耐用性:真空泵浦專為處理輕度腐蝕性氣體和冷凝設計。例如,ACP 120 G 配備氮氣氣鎮閥系統,而 A4 產品系列具有防腐蝕鍍膜,極其適合含可冷凝或腐蝕性物質的鍍膜工藝。

5. 輕巧型設計:TORRI BD、A 100 L 和 A 200 L 等精巧多級魯式真空泵浦可輕鬆整合至現有半導體系統。佔地面積小,特別有利於空間受限的鍍膜設定。

真空助力器與多級魯式真空泵浦有何區別?

真空助力器和多級魯式真空泵浦皆根據相同的真空助力器原理運作,使用至少兩個反向旋轉葉片轉子將泵送介質輸送通過系統。然而,兩者設計和功能各不相同:

真空助力器與底泵浦結合使用,提高抽氣速率並提升真空系統的效能。與傳統真空泵浦不同,其不會在內部壓縮泵送介質。而是將介質移轉至底泵浦,在那裡進行實際壓縮。

相比之下,多級魯式真空泵浦由多個串聯級組成。泵送介質在壓縮室內經多級逐步壓縮後排出。