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U_{quad}=U+V\cdot\mbox{cos}\omega t Formel 6-5: Quadrupol-Ablenkspannung
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Abbildung 6.5: Prinzip des Quadrupol-Massenspektrometers
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a=\frac{8\cdot Q\cdot U}{m\cdot r_0^2\cdot\omega^2} Formel 6-6: Stabilitätsparameter a
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q=\frac{4\cdot Q\cdot V}{m\cdot r_0^2\cdot\omega^2} Formel 6-7: Stabilitätsparameter q
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Abbildung 6.6: Stabilitätsdiagramm eines Quadrupolfilters
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U_{p}=k_{u}\cdot M\cdot r_0^2\cdot f^2 Formel 6-8: Stabilitätsbedingung für U
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V_{p}=k_{v}\cdot M\cdot r_0^2\cdot f^2 Formel 6-9: Stabilitätsbedingung für V
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M>\frac{k_{H}\cdot V}{r_0^2\cdot f^2} Formel 6-10: Hochpassbedingung
Entscheidend für die Transmission von Ionen durch das Filter sind die Einschussbedingungen. Die Ionen müssen in einem möglichst engen Bereich um die Mitte des Stabsystems in den Quadrupol eintreten und sich dabei möglichst parallel zur Stabachse bewegen.
Diese Forderungen lassen sich umso leichter erfüllen, je größer der Felddurchmesser (Stababstand) und je länger der Quadrupol (Stablänge) ist. Außerdem lassen sich mit größeren Abmessungen der Stäbe die Anforderungen an die geometrische Genauigkeit (Fertigungstoleranzen) einfacher einhalten.
Im praktischen Betrieb wird nicht die Frequenz zum Durchstimmen des Quadrupolfilters variiert, sondern das Verhältnis U/V in Abhängigkeit von der Massenzahl so angesteuert, dass nicht das eigentliche Auflösungsvermögen M/ΔM, sondern die Linienbreite ΔM konstant bleibt. Dies bedeutet eine Zunahme des Auflösungsvermögens proportional zur Massenzahl. Wegen Formel 6‑9 (V proportional M) erzielt man beim Quadrupol im Gegensatz zum Sektorfeld-Massenspektrometer eine lineare Massenskala.
Ein Punkt von wesentlicher Bedeutung für ein QMS ist die erforderliche HF-Leistung. Bezeichnet man mit C die gesamte Kapazität des Systems und mit Q die Kreisgüte des Leistungskreises, so wächst die erforderliche HF-Leistung
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N_{HF}\approx\frac{C}{Q}\cdot M^2\cdot f^5\cdot r_0^4 Formel 6-11: HF-Leistung
Der erforderliche Massenbereich und die gewünschte Auflösung legen die Abmessungen des Filters und die Wahl der Betriebsfrequenz fest. Gestuft nach den Anforderungen findet man Geräte mit 6, 8, und 16 mm Stabdurchmesser und entsprechend darauf abgestimmter Elektronik.
Hier noch eine kurzer Exkurs zum Zusammenhang zwischen Auflösung und mechanischer Präzision. Betrachten wir ein Quadrupol-Massenfilter, welches in der Spitze des Stabilitäts-Diagramms, also mit einer hohen Auflösung arbeitet. Es gilt Formel 6-8
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U= 1.2122 · 10-8
\frac{\mbox{kg}}{\mbox{A}\cdot\mbox{s}}\cdot M\cdot r_0^2\cdot f^2
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V= 7.2226 · 10-8
\frac{\mbox{kg}}{\mbox{A}\cdot\mbox{s}}\cdot M\cdot r_0^2\cdot f^2
Daraus folgt:
(ck ist eine Konstante) und nach Differentiation, Division durch M und Betragsbildung die Streuung des Filters verursacht durch r0:
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\frac{dM}{M}=\frac{2\cdot\delta r_0}{r_0} Formel 6-12: Streuung
Diese vereinfachte Fehlerrechnung berücksichtigt bei weitem nicht alle Effekte, die zur Transmission beitragen, sie lehrt aber einige fundamentale Beziehungen:
- Der Feldradius muss, abhängig vom gewählten Massenbereich über die gesamte Länge des Filters wesentlich besser als 1 % eingehalten werden. Schwankungen im Feldradius führen zu Transmissions-Verlusten
- Je größer die Abmessungen des Stabsystems gewählt werden, desto geringer ist der Einfluss der absoluten mechanischen Toleranzen
- Je höher der Massenbereich ist in dem man benachbarte Massen noch unterscheiden will, desto strenger werden die Anforderungen an die relative Genauigkeit des Massenfilters.
Zusammenfassung
Das Quadrupol-Massenfilter ist ein dynamisches Massenfilter für positive und negative Ionen. Die Massenskala ist linear mit der angelegten Amplitude der HF-Spannung. Die Massenauflösung lässt sich elektrisch durch das Verhältnis der Gleichspannung U zur HF-Spannungsamplitude V komfortabel einstellen. Wegen seiner geringen Abmessungen und seines geringen Gewichtes eignen sich Quadrupol-Massenspektrometer sowohl als reine Restgasanalysatoren, als auch in einer qualitativ höherwertigen Ausführung als Sensoren für die Gasanalyse.6.3.2 Ionenquellen
Bevor Gase in einem Massenfilter analysiert werden können, muss man sie in einer Ionenquelle durch Elektronenbeschuss ionisieren (Abbildung 6.6).Aus einer elektrisch beheizten Kathode (Filament) treten Elektronen aus. Zwischen Anode und Kathode wird eine Spannung angelegt, die die Elektronen beschleunigt. Die in den Formationsraum zwischen Anode und Kathode eintretenden neutralen Gasteilchen werden durch Elektronenstoß ionisiert. Dabei werden einfach und mehrfach positive Ionen gebildet. Die Energie der Stoßelektronen hat sowohl auf die Anzahl als auch auf die Art der gebildeten Ionen einen starken Einfluss.
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Abbildung 6.6: Schnitt durch eine Axialionenquelle.
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Abbildung 6.7: Ionisierung als Funktion der Elektronenenergie
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I_{K+}=i_{\bar{}}\cdot I_{e}\cdot s\cdot p_{K} Formel 6-13: Ionenstrom
i¯ Elektronenstrom (Emissionsstrom) in A
Ie Mittlere Weglänge der Elektronen in cm
s Differenzieller Ionisierungswirkungsquerschnitt von K in 1/(cm · hPa)
pK Partialdruck der Gaskomponente K in hPa
Bei der Ionisierung komplexer Moleküle werden sehr viele Ionenarten gebildet. Neben einfach und mehrfach geladenen Molekülionen (ABC+, ABC++) treten zusätzlich Bruchstückionen auf:
- ABC+ 2e-
- ABC++ + 3e-
- AB+ + C + 2e-
- BC+ + A + 2e-
- A+ + BC + 2e-
- C+ + AB + 2e-
- B+ + A + C + 2e-
Neben diesen Arten können auch noch Rekombinations-Ionen, z. B. AC+, gebildet werden. Das Auftreten und die relative Häufigkeit der einzelnen Ionenarten sind charakteristisch für eine bestimmte Molekülart und dienen als wichtiges Hilfsmittel zur Identifikation des Moleküls und somit zur qualitativen Gasanalyse. Abbildung 6.8 zeigt die Bruchstückionenverteilung (cracking pattern oder fractal pattern) des einfachen Moleküls CO2, aufgenommen bei 70 eV Elektronenenergie.
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Abbildung 6.8: Bruchstückionenverteilung von CO2
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MaterialTemperaturVerwendbar für GaseKommentarY2 O3 / lr1,300 °CInerte Gase, Luft / O2, NOx, SOxKurze Standzeit bei Halogenen, unempfindlich gegen hohe O2 -Konzentrationen, erzeugt etwas CO / CO2, bei O2- oder H2O-UntergrundW1,800 °CInerte Gase, H2, Halogene, FreoneKurze Standzeit bei O2 -Anwendungen, erzeugt etwas CO / CO2, aus O2 - oder H2O-Untergrund, Versprödung durch CRe1,800 °CInerte Gase, Kohlenwasserstoffe, H2, Halogene, FreoneCa. drei Monate Standzeit durch Verdampfung des Materials, wird bei Kohlenwasserstoffen eingesetzt
Tabelle 6.1: Filamentmaterialien und deren Anwendungen
Die unterschiedlichen Ionenquellen werden im Folgenden an Hand Ihrer Eigenschaften und Anwendungsgebiete beschrieben. Allen Ionenquellen ist gemeinsam, dass sie auf ein Potential bis zu 150 V gelegt werden können. So wird ein Signaluntergrund durch EID-Ionen vermieden (EID = Electron Impact Desorption, auch: ESD = Electron Stimulated Desorption). Diese Technik wird später im Detail erläutert.
Axialionenquelle
Diese Ionenquelle zeichnet sich besonders durch einen mechanisch robusten Aufbau und eine hohe Empfindlichkeit aus. Sie findet wegen ihrer offenen Bauweise vornehmlich Anwendung bei der Restgasanalyse in Hochvakuumanlagen. Den prinzipiellen Aufbau einer Axial-Ionenquelle zeigt Abbildung 6.6. Die Kathode (1) ist innerhalb einer Bohrung der Wehneltelektrode (2) angeordnet und einseitig mit dieser verbunden. Die zur Anode (3) hin beschleunigten Elektronen ionisieren Gasmoleküle im Formationsraum (4). Die positiven Ionen gelangen durch die Extraktionsblende (5) in das Massenfilter. Durch die verhältnismäßig offene Bauweise treten nur geringe Verfälschungen durch Desorption und Oberflächenreaktionen auf.Gitterionenquelle
Zur Restgasuntersuchung in UHV- oder gar XHV-Anwendungen benutzt man die Gitterionenquelle. Die extrem offene Bauweise und die Materialwahl sorgen für eine sehr geringe Eigengasabgabe. Diese Ionenquelle ist mit zwei Wolfram-Filamenten ausgerüstet, die zur Entgasung gleichzeitig beheizt werden können. Soll bei Drücken unterhalb 10-11 hPa gearbeitet werden, so benutzt man extra für diesen Zweck hoch entgaste Stabsysteme. Messungen im Druckbereich kleiner 10-10 hPa können durch sogenannte EID-Ionen verfälscht werden [32]. Diese (H+, O+, F+, Cl+) Ionen werden durch Elektronenbeschuss von Oberflächen mit oft hoher Ausbeute direkt desorbiert. EID-Ionen stammen aus adsorbierten Schichten, deren Ursprung in der Vorgeschichte der UHV-Apparatur bzw. der Ionenquelle zu suchen ist, und haben in der Regel eine Anfangsenergie von einigen eV. Diese Eigenschaft wird durch geschickte Wahl der Feldachsenspannung zur Unterdrückung der EID-Ionen gegenüber Ionen aus der Gasphase mit einer Energie von ca.100 eV genutzt, (Abbildung 6.10).-
Abbildung 6.9: Gitterionenquelle
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Abbildung 6.10: Diskriminierung von EID-Ionen
Cross-Beam-Ionenquelle
Die Cross-Beam-Ionenquelle Abbildung 6.11 gestattet den direkten Durchtritt von Molekularstrahlen senkrecht und parallel zur Systemachse. Wahlweise werden vom linken oder rechten Filament (1) Elektronen mit einstellbarer Energie (90 – 120 eV) in den Formationsraum (3) emittiert. Der Wehneltzylinder (4) auf Filamentpotential verhindert Streuung der Elektronen in die Umgebung. Wegen der in weiten Grenzen einstellbaren Elektronenenergie kann diese Ionenquelle zur Bestimmung des Appearance-Potentials eingesetzt werden. Die Einschussbedingungen der Ionen ins Massenfilter werden bei der Cross-Beam-Ionenquelle besonders präzise eingehalten. Cross-Beam-Ionenquellen werden zur Diagnose gebündelter Molekularstrahlen eingesetzt. Hierbei schießt man den Molekularstrahl senkrecht zur Zeichenebene (Abbildung 6.11) in den Formationsraum ein. Neutrale Gasmoleküle die nicht ionisiert wurden, werden nach Durchgang durch die Ionenquelle (7) entweder in eine Pumpe oder in eine Kühlfalle zwecks Kondensation eingeleitet. Massenspektrometer mit dieser Ionenquelle werden auch als „Rate-Meter“ in der Molekularstrahlepitaxie verwendet.-
Abbildung 6.11: Cross-Beam-Ionenquelle
Gasdichte Ionenquelle
Einige der zuvor beschriebenen Ionenquellen sind auch in gasdichten Versionen erhältlich. Gasdichte Ionenquellen werden eingesetzt, wenn nur geringe Mengen Probengas zur Verfügung stehen, oder wenn der durch Restgas erzeugte Signaluntergrund wirksam unterdrückt werden soll. Hierbei müssen Gaseinlasssystem (z. B. eine beheizte Kapillare) und Ionenquelle aufeinander abgestimmt sein. Die einströmende Gasmenge bestimmt über den Leitwert der Ionenquelle den Druck im Formationsraum, der ein Vielfaches des Druckes im umgebenden Vakuumraum betragen kann. Am Beispiel der Axialionenquelle soll die Funktionsweise dargestellt werden.Das zu analysierende Gas wird über eine auf Erdpotential liegende Metallkapillare (6) und ein Isolierzwischenstück (5) direkt in den Formationsraum (4) der Ionenquelle eingeleitet. Die Abdichtung erfolgt durch die Scheibe (7). Der Leitwert zum Vakuumraum hin beträgt etwa 1 l/s.
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Abbildung 6.12: Gasdichte Axialionenquelle
SPM-(Sputter-Process-Monitor) Ionenquelle
Bei dieser Ionenquelle ist der Formationsraum (7) direkt mit der Prozesskammer verbunden. Der Analysator ist mit einem kleinen Turbopumpstand (1) ausgerüstet, der auch den Kathodenraum (5) auf etwa 10-5 hPa evakuiert. Von der Niederdruckseite werden durch kleine Löcher Elektronen zur Ionisierung in den Formationsraum (7) eingeschossen. Die gebildeten Ionen werden ebenfalls durch eine kleine Öffnung zur Niederdruckseite in das Massenfilter extrahiert. Diese Ionenquelle hat zwei entscheidende Vorteile bei der Untersuchung der Gaszusammensetzung in Sputterprozessen. Zum einen erfolgt die Analyse bei einem bis zu drei Größenordnungen höheren Druck in der Ionenquelle. d. h. man kann einen höheren Restgasanteil im Rezipienten tolerieren, zum anderen steht das heiße Filament nicht in direktem Kontakt mit dem Sputterprozess. Dadurch wird bei empfindlichen Prozessen Kontamination durch die heiße Kathode vermieden.-
Abbildung 6.13: SPM-Ionenquelle
Standard-Ionenquelle PrismaPlus
Das PrismaPlus Massenspektrometer von Pfeiffer Vacuum ist mit dieser robusten und hochempfindlichen Ionenquelle ausgestattet, die speziell für Restgasanalysen geeignet ist. In ihrem Aufbau ist sie vergleichbar mit einer Gitterionenquelle. Sie verfügt wie diese über zwei Kathoden und gewährleistet damit einen besonders sicheren Betrieb. Es gibt eine offene und eine gasdichte Ausführung mit Gaseinlass in Achsrichtung.-
Abbildung 6.14: PrismaPlus-Ionenquellen
- Offene Ionenquellen werden benutzt, wenn das Prozessgas analysiert werden soll und keine weitere Druckreduktion erforderlich ist.
- Geschlossene Ionenquellen werden angewendet, um z. B. in der Analytik mit geringen Gasmengen auszukommen oder die Empfindlichkeit gegenüber dem Untergrund des Vakuumsystems zu erhöhen.
Letztere werden zusammen mit einem differentiell gepumpten System benutzt (Abbildung 6.13), um Gase höherer Drücke zu analysieren.
6.3.3 Detektor
Die nach ihrem Masse-Ladungs-Verhältnis im Stabsystem getrennten Ionen können mit verschiedenen Detektortypen elektrisch nachgewiesen werden:- Faraday-Cup zur direkten Messung des Ionenstromes mit Hilfe eines Elektrometerverstärkers
- Sekundärelektronenvervielfacher, diskret aufgebaut mit einzelnen Dynoden
- kontinuierlicher Sekundärelektronenvervielfacher
Die Auswahl des Detektors richtet sich primär nach den Anforderungen an die Nachweisempfindlichkeit, die Messgeschwindigkeit und das Signal/Rausch-Verhältnis. Sie wird aber auch durch andere applikationsspezifische Forderungen an die Stabilität, die thermische und chemische Beständigkeit und den Platzbedarf bestimmt.
Faraday-Cup
Im einfachsten Fall treffen die Ionen auf einen Faraday-Kollektor, eine becherförmige Metallelektrode (Faraday-Cup), und geben dort ihre elektrische Ladung ab.-
Abbildung 6.15: Funktionsweise des Faraday-Cup
Neben der einfachen, robusten Bauweise zeichnet sich ein Faraday-Detektor durch seine Langzeitstabilität und hohe Temperaturbelastbarkeit aus. Um die Zeitkonstanten klein zu halten und andere störende Einflüsse zu vermeiden, wird der Elektrometerverstärker direkt an den Analysator angeschlossen und sein Ausgangssignal wird dem Datenauswertesystem zugeleitet. Der Faraday-Cup ist deshalb auch bei allen Pfeiffer Vacuum Massenspektrometern vorhanden. Er ist nur zum Nachweis positiver Ionen geeignet.
Sollen sehr kleine Ionenströme gemessen werden, oder wird eine sehr hohe Messgeschwindigkeit gefordert, so verwendet man physikalische Vorverstärker, sogenannte Sekundärelektronenvervielfacher.
Sekundärelektronenvervielfacher (SEV)
Abbildung 6.16 zeigt den Aufbau eines solchen Verstärkers (engl. SEM = Secondary Electron Multiplier). Zylindrisch geformte Bleche (Dynoden) sind mit einer Schicht mit geringer Austrittsarbeit für Elektronen überzogen. Ein Ion oder ein Elektron erzeugt beim Auftreffen auf diese Schicht je nach seiner Bewegungsenergie mehrere Sekundärelektronen. Durch Hintereinanderschaltung mehrerer Stufen erhält man aus einem einzelnen Ion eine Elektronenlawine. Zur Beschleunigung der Elektronen legt man positive Spannungen von ca. 100 V zwischen den Dynoden an. Technisch wird diese Anordnung durch eine mit einer Hochspannung (ca. 1.000 – 3.000 V) versorgten Widerstandskette realisiert, an deren Anzapfungen die einzelnen Dynoden angeschlossen sind. Man erdet den positiven Pol der Hochspannung, damit die austretenden Elektronen etwa auf Erdpotential liegen. Man erzielt mit solchen Anordnungen Stromverstärkungsfaktoren von 107.-
Abbildung 6.16: Sekundärelektronenvervielfacher SEV
- Die Empfindlichkeit des Instruments wird drastisch erhöht, bis zu K = 10 A/hPa sind möglich.
- Hierdurch können niedrigere Partialdrücke mit dem nachgeschalteten Elektrometerverstärker in kürzeren Zeitintervallen gemessen werden.
- Das Signal/Rausch-Verhältnis ist wesentlich höher als das eines Elektrometerverstärkers und somit kann die Nachweisgrenze um mehrere Größenordnungen gesenkt werden. Das gilt nur wenn bei hoher Verstärkung im SEM auch ein geringer Dunkelstrom (Rauschanteil) fließt. Eine Erhöhung der Empfindlichkeit alleine nützt wenig.
Ein SEM hat aber auch Nachteile:
- Die Verstärkung kann sich ändern durch Verschmutzung oder chemische Veränderung der aktiven Schicht.
- Die Anzahl der Elektronen (Konversionsfaktor), die ein auftreffendes Ion erzeugt (ca. 1 bis 5 Stück) hängt von der Ionenenergie ab (Massendiskriminierung).
Durch diese Effekte verändert sich die Verstärkung. Sie muss deshalb von Zeit zu Zeit kalibriert werden. Verstärkungsänderungen lassen sich leicht durch Änderung der Hochspannung anpassen. Der Konversionsfaktor kann konstant gehalten werden, indem man die erste Dynode mit einer separaten, hohen Spannung versorgt, welche die Energie der verschiedenen Ionen angleicht.
Mit Hilfe von Sekundärelektronenvervielfachern sind sehr schnelle Messungen möglich. Wie aus der Tabelle 6.2 ersichtlich ist, sind die Messgeschwindigkeiten im Vergleich zu Faraday-Cups wesentlich höher.
Diskret aufgebaute SEM eignen sich neben dem Betrieb als Stromverstärker auch als Ionenzähler. Mit dieser Konfiguration lassen sich extrem kleine Zählraten von 1 Ion / 10 s erreichen. Auch hohe Zählraten sind möglich, sodass sich im Vergleich mit dem Betrieb als Stromverstärker ein sehr großer dynamischer Bereich ergibt.
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PrismaPlusHiQuad mit SEM 217HiQuad mit SEM 218DetektorenFaraday / C-SEMFaraday / SEMFaraday / SEM mit KonversionsdynodeHöchstmöglicher Druck Faraday-Cub10-3 hPa10-4 hPa10-4 hPaHöchstmöglicher Druck SEM, C-SEM10-5 hPa10-5 hPa10-5 hPaHöchste Messgeschwindigkeit / u2 ms125 µs125 µsAusheiztemperatur (max)300 °C400 °C400 °CZählbetriebNoYes (optional)Yes (optional)Detektion positiver IonenYesYesYesDetektion negativer IonenNoYesNo
Tabelle 6.2: Detektoren und deren Eigenschaften
Allen Sekundärelektronenvervielfachern gemeinsam ist die Beschränkung auf den Betrieb bei Drücken < 10-5 hPa. Höhere Drücke führen beim Betrieb zur Pyrolyse der Wasserschicht auf den Dynoden und damit zu vorzeitiger Alterung. Die hohen Spannungen können bei p > 10-5 hPa Gasentladungen bewirken, die den SEM zerstören.
Kontinuierlicher Sekundärelektronenvervielfacher
Ein kontinuierlicher Sekundärelektronenvervielfacher (C-SEM = Continuous Secondary Electron Multiplier) besteht aus einem Glasrohr, das innen mit einer leitfähigen Schicht mit hohem Widerstand und kleiner Austrittsarbeit belegt ist (Abbildung 6.17). Man legt eine Hochspannung an die Schicht an und erhält so über die Länge des Rohres ein gleichmäßiges Spannungsgefälle. Ionen aus dem Quadrupolsystem werden auf die Konversionsdynode gelenkt und erzeugen Sekundärelektronen, die eine Elektronenlawine im Rohr auslösen. Es werden Stromverstärkungsfaktoren von 106 bei 2.500 V Verstärkungsspannung erreicht.-
Abbildung 6.17: Funktionsweise des kontinuierlichen C-SEM
6.3.4 Vakuumsysteme
Die Ionen müssen das Quadrupolfilter durchlaufen können, ohne mit Neutralgasteilchen zusammenzustoßen. Dies erfordert für den Betrieb von Quadrupol-Massenspektrometern mittlere freie Weglängen die bei Drücken p < 10-4 hPa erreicht werden. Dazu ist ein entsprechender Pumpstand mit Drucküberwachung erforderlich. Damit eine Gasanalyse mit optimaler Empfindlichkeit durchgeführt werden kann, ist nicht nur ein geringer Basisdruck erforderlich, sondern das Restgas sollte nur unvermeidliche Partialdruckanteile der Desorption von den Wänden der Apparatur beinhalten. Restgasspektren dieser Art und niedrige Basisdrücke erreicht man am besten mit Turbodragpumpständen (Abbildung 4.27). Eine zusätzliche Totaldruckmessröhre schützt das Massenspektrometer vor dem Einschalten bei zu hohem Druck. Beim Aufbau eines solchen Systems ist auf die sinnvolle Anordnung von Gaseinlass, Ventilen, Pumpen und Messgeräten zu achten, um Verfälschungen durch ungünstige Strömungsverhältnisse zu vermeiden. Bei Vakuumprozessen, die bei hohem Druck ablaufen, ist oft ein getrennter Pumpstand erforderlich, der das Messsystem evakuiert. Zu diesem Zweck benutzt man kleine Pumpstände mit Turbodragpumpen und Membranpumpen.6.3.5 Einlasssysteme
In der Gasanalyse müssen die zu untersuchenden Gasgemische meist von Atmosphärendruck auf den Arbeitsdruck des Massenspektrometers (MS) entspannt werden. Viele vakuumtechnische Prozesse, die mit Massenspektrometern überwacht werden sollen, finden in Druckbereichen p > 10-4 hPa statt. Eine wesentliche Komponente eines Quadrupol-Massenspektrometers ist daher ein für die Anwendung geeignetes Gaseinlasssystem. Je nach Druckgradient werden unterschiedliche Verfahren zur Druckreduktion eingesetzt.Gasgemische müssen möglichst ohne Entmischung in das Massenspektrometer eingelassen werden:
- Bei Drücken p > 10 hPa reduziert man den Druck über eine (beheizte) Kapillare – in der Laminarströmung herrscht – mit nachgeschaltetem Gaseinlassventil. Unter Umständen ist vor dem Ventil noch eine Druckreduzierung über eine zusätzliche Pumpe notwendig.
- Bei Drücken p < 10 hPa reduziert man den Druck über eine Blende und ein mit einer Turbomolekularpumpe differentiell gepumptes Massenspektrometer.
- Bei Drücken p < 10-4 hPa kann das Massenspektrometer mit einer offenen Ionenquelle direkt in die Prozesskammer eingebaut werden.
Bei Verwendung einer Blende zur Druckreduzierung wird deren gasartabhängiger Leitwert durch den ebenfalls gasartabhängigen Leitwert des Strömungsweges zur Pumpe hin wieder aufgehoben, sodass die Konzentrationen im QMS der wahren Gaszusammensetzung entsprechen.
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EinlasssystemDruckbereichProduktbeispielCharakteristikOhne Druckreduktion10 -12 bis 10 -4 hPaPrismaPlus QMG 220, HiQuad QMG 700Mit verschiedenen Ionenquellen kann ein weiter Druckbereich abgedeckt werdenSPM-Ionenquelle10 - 9 bis 10 hPaPrismaPlus SPM 220, HiQuad SPM 700Spezielle Ionenquelle für die Analyse von Sputterprozessen. Mit diesem System wird der Zustand der Anlage ohne Verfälschung durch eine Druckreduktion analysiertKapillareinlass700 bis 1.100 hPa, abhängig von der Kapillar- länge und der vorgeschalteten BlendeOmniStar, ThermoStar, Einlasssystem GES 020 und GES 010Differenziell gepumptes Einlasssystem, geringe Massendiskriminierung, nicht geeignet für wechselnde EinlassdrückeBlendeneinlas0,1 bis 10 hPa, abhängig vom BlendendurchmesserPrismaPlus HPA 220Blenden mit Durchmesser 0,01 bis 0,5 mm, einfacher, robuster Aufbau, Massendiskriminierung, mit unterschiedlichen Blendendurchmessern sind wechselnde Einlassdrücke möglich, ungeeignet für schnell wechselnde GaszusammensetzungenDosierventil0,1 bis 1.000 hPaPrismaPlus HPA 220, Dosierventile UDV 040 bis 146Dosierventile eignen sich für den Gaseinlass über einen sehr weiten Messbereich, differenziell gepumpte Ventile erlauben auch eine Analyse schnell wechselnder Gas- zusammensetzungenDruckgeregelter Gaseinlass10 -3 bis 1.000 hPaEVR 016 mit RVC 300, OmniStar mit druckgeregeltem EinlassDifferenziell gepumptes Einlasssystem, bestehend aus einer Regelschleife mit Regelventil und Druckmessung, relativ großes Totvolumen, lange Gaswechselzeiten
Tabelle 6.3: Verschiedene Gaseinlasssysteme und deren Eigenschaften
6.3.6 Anwendungshinweise
Die Analysemöglichkeiten mit Massenspektrometern sind ebenso vielfältig wie die Anwendungen des Vakuums. Bei der Gasanalyse im Druckbereich bis Atmosphärendruck setzt man die oben beschriebenen Gaseinlasssysteme mit beheizten Kapillaren ein. Gasströme kann man direkt in gasdichte Ionenquellen einleiten und so den Untergrund der Vakuumumgebung reduzieren. Gasstrahlen lässt man durch Cross-Beam-Ionenquellen hindurch direkt in eine Vakuumpumpe einfallen.-
Abbildung 6.18: QMS mit Gaseinlasssystem und Cross-Beam-Ionenquelle
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Abbildung 6.19: Differentiell gepumptes QMS mit verschiedenen Gaseinlässen
Bei sehr niedrigen Drücken, besonders im UHV Bereich, benutzt man offene Ionenquellen, die sich durch eine besonders geringe Oberfläche auszeichnen und damit niedrige Ausgasraten aufweisen (Gitterionenquelle). Wegen der geringen Gasdichten muss man Sekundär-elektronenvervielfacher (SEM) als Detektoren verwenden, die senkrecht zur Achse des Quadrupols angeordnet sind. Zur Verbesserung des Signal/Rausch-Verhältnisses ist gegenüber dem SEM eine Turbopumpe angebaut, die einströmende Neutralteilchen abpumpt.
Einen Sonderfall stellt die Sekundärionen-Massenspektrometrie (SIMS) dar. Hierbei werden Ionen auf Oberflächen geschossen, die ihrerseits positiv oder negativ geladene Sekundärionen freisetzen. Diese werden direkt von einem QMS ohne Ionenquelle nachgewiesen. Auch hier benutzt man die im vorigen Abschnitt beschriebene Messanordnung.