ATH 2300 MT/2303 M
Pompe per vuoto turbomolecolari
Silenziosità
Basso livello di vibrazioni e rumorosità, ideale per applicazioni sensibili alle vibrazioni nel processo di produzione dei semiconduttori e nella strumentazione analitica
Flessibilità
Compatibile con una varietà di pompe per vuoto iniziale, versione MT con sistema di riscaldamento integrato per condizioni chimiche esigenti, motori a corrente continua (CC) con controllo di frequenza
Senza manutenzione
Nessuna parte usurata grazie alla tecnologia dei cuscinetti magnetici, minore contaminazione da particelle o accumulo di residui nella versione MT
Specifiche tecniche
Settori e applicazioni
Automotive e trasporto
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Ricerca spaziale
Display
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Deposizione fisica in fase di vapore (PVD)
Medicale
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Imaging diagnostico
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Acceleratore per uso medicale
R&D
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Fisica delle particelle
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Ricerca fotonica
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Ricerca spaziale
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Vuoto ultra alto
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Fisica del plasma
Semiconduttore
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LPCVD/diffusione
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PVD
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Ispezione e metrologia
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Etching di Si policristallino
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Deposizione leggera
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Impianto ionico
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PECVD
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Litografia
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Etching di metallo e dielettrici high K
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Mordenzatura con ossido
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Blocco carico e trasferimento
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Cobalto, WCVD, TiN e TDMAT
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ALD
Solare
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Produzione di celle
Rivestimento a film sottile
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Rivestimento ottico
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Rivestimento decorativo
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Rivestimento in laboratorio
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Rivestimento del vetro
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Rivestimento protettivo antiusura
Accessori
- Set di montaggio
- Valvola acqua di raffreddamento
- Valvola del gas di spurgo
- Controller remoto portatile
- Griglia di protezione sull'ingresso
- Unità riscaldatore
- Cavo e bobina della valvola
- Vari tipi di flangia di ingresso
- Varie interfacce utente
- Sistema di gestione della temperatura per processo corrosivo
- Sistema di raffreddamento ad aria