- Senza manutenzione grazie ai cuscinetti magnetici
- Usura minima
- Costi di esercizio ridotti
- Funzionamento senza olio
- Bassa rumorosità e bassi livelli di vibrazioni
- Design compatto
ATH-M / ATP-M
Pompe per vuoto turbomolecolari
Le pompe per vuoto turbomolecolari ATH-M e ATP-M utilizzano un sistema di cuscinetti magnetici a 5 assi per generare livelli di vuoto alto, ultra alto e persino estremamente alto fino a 10-10 hPa (mbar).
Progettate per applicazioni esigenti nella produzione di semiconduttori, applicazioni industriali e R&D, il principio operativo di queste pompe per vuoto utilizza rotori ad alta velocità per garantire un'elevata capacità di aspirazione con vibrazioni minime.
ATH-M / ATP-M
Vantaggi della serie ATH-M / ATP-M
La tecnologia dei cuscinetti magnetici delle serie ATH-M e ATP-M utilizza l'elettromagnetismo e un elaborato sistema di controllo elettronico per mantenere il rotore in sospensione e consentire la rotazione senza contatto fisico con l'alloggiamento pompa. Ciò elimina l'attrito, previene l'usura e rende queste turbopompe prive di manutenzione.
L'attrito meccanico ridotto al minimo si traduce anche in un basso livello di vibrazioni e rumorosità. Questo rende le turbopompe ATH-M e ATP-M ideali per applicazioni sensibili alle vibrazioni nei processi di produzione dei semiconduttori.
Inoltre, in caso di mancanza di potenza, i cuscinetti magnetici vengono alimentati con l'elettricità generata dall'energia di rotazione della pompa. Ciò consente di colmare facilmente le mancanze di potenza per diversi minuti.
I rotori delle nostre pompe per vuoto turbomolecolari sono azionati da motori a corrente continua (CC) a controllo di frequenza. Possono regolare la velocità rotazionale dei rotori per adattarla al livello di vuoto desiderato, contribuendo a risparmiare su energia e costi. Nell'ultima generazione di pompe ATH-M e ATP-M, la guida è integrata nella pompa, garantendo un ingombro ridotto.
Alcune pompe turbo ATH-M sono dotate di un sistema di riscaldamento integrato, che aiuta a mantenere le prestazioni della pompa in condizioni chimiche esigenti. Questa caratteristica è particolarmente vantaggiosa in applicazioni come la deposizione chimica da vapore (CVD), in cui le reazioni chimiche possono produrre sottoprodotti che tendono a condensare all'interno del sistema per vuoto. Il riscaldamento integrato mantiene la pompa a una temperatura costantemente elevata, riducendo il rischio di condensa e accumulo di residui.