ATP 1603 M
Pompe per vuoto turbomolecolari
Silenziosità
Basso livello di vibrazioni e rumorosità, ideale per applicazioni sensibili alle vibrazioni nel processo di produzione dei semiconduttori e nella strumentazione analitica
Flessibilità
Compatibile con una varietà di pompe per vuoto iniziale, eccellente tasso di compressione per gas leggeri
Senza manutenzione
Nessuna parte usurata grazie alla tecnologia dei cuscinetti magnetici, lungo intervallo di manutenzione
Specifiche tecniche
Settori e applicazioni
Automotive e trasporto
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Ricerca spaziale
Display
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Deposizione fisica in fase di vapore (PVD)
R&D
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Fisica delle particelle
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Ricerca fotonica
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Ricerca spaziale
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Vuoto ultra alto
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Fisica del plasma
Semiconduttore
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LPCVD/diffusione
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PVD
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Ispezione e metrologia
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Etching di Si policristallino
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Deposizione leggera
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Impianto ionico
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PECVD
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Litografia
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Etching di metallo e dielettrici high K
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Mordenzatura con ossido
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Blocco carico e trasferimento
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Cobalto, WCVD, TiN e TDMAT
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ALD