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全新 UltiDry 系列多级罗茨真空泵。来源:Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 推出 UltiDry 多级罗茨真空泵

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 作为全球 Busch Group 旗下品牌,重磅推出全新 UltiDry 系列多级罗茨真空泵。该系列产品专为要求严苛的半导体应用而设计,将卓越性能、高能效以及灵活的工艺适应性集于一身。

UltiDry 系列真空泵可耐受腐蚀性气体、强腐蚀性副产品及高粉尘负载。其无油、多级压缩技术可确保产生洁净、干燥且无污染的的真空环境,是化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)和物理气相沉积(PVD)等工艺的理想之选。

专利吹扫系统,大幅节省能耗

UltiDry 系列的关键创新之一,是其搭载的专利吹扫喷射系统,该系统旨在通过冲洗掉粉末等污染物来保护真空泵, 确保即使在粉末密集的工艺中也能实现稳定的性能和平稳运行。

能耗是半导体晶圆厂主要的成本因素之一。依托优化的多级罗茨结构设计,相较于同品类的其他真空泵,UltiDry 系列产品的能耗可以节省高达 87%。这不仅可以减少碳足迹,还可以帮助客户实现可持续发展和成本效益目标。

该真空泵可在 50℃ 至 270℃ 的宽温域范围内稳定运行,能灵活适应不同的工艺要求。这使得它既适用于对温度敏感的镀膜工艺,也适用于具有腐蚀性的半导体应用。UltiDry 系列产品能够在不同温度条件下保持稳定运行,既保障了产品质量的一致性,也有效延长了设备的保养周期。耐腐蚀涂层、低吹扫气体用量以及高能效三重优势相结合,使得 UltiDry 系列产品成为了一款经久耐用且低维护成本的解决方案,专为应对严苛的制造环境而生。