请更新您的浏览器。

您使用的 Microsoft Edge 浏览器版本可能过低。为了在访问 Pfeiffer 普旭网站时获得最佳体验,请更新您的浏览器。

联系方式 客户门户
全球
[1] Paul Scherrer Institut, Villingen, CH

[2] DIN 28400-1, Ausgabe: 1990-05, Titel (deutsch): Vakuumtechnik; Benennung und Definitionen; Allgemeine Benennungen.

[3] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 667

[4] G. M. Barrow, G. W. Herzog (bearb.), Physikalische Chemie Teil 1: Atome, Moleküle, Kerne, 5. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 2 ff

[5] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 17

[6] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 23

[7] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 25

[8] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, Tabelle 17.5, S. 667

[9] Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988, S. 38

[10] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, Tabelle 17.6, S. 668

[11] Zur Herleitung siehe Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 84

[12] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 83

[13] Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988, S. 132

[14] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 690

[15] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 7. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden

[16] Christian Edelmann, Vakuumphysik, Spektrum Akademischer Verlag, Heidelberg/Berlin 1988

[17] Jobst H. Kerspe, Vakuumtechnik in der industriellen Praxis, 3. Auflage, expert Verlag, Renningen 2003

[18] John F. O'Hanlon, A user's guide to vacuum technology (3rd Edition). Wiley-Interscience, Hoboken, New Jersey, 2003

[19] J. Delafosse, G. Mongodin, Les calculs de la technique du vide, Société française des ingénieurs et techniciens du vide, 1961

[20] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 272

[21] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 273 ff

[22] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 150

[23] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden. S. 638

[24] G. Schweitzer, H. Bleuler, A. Traxler, Active Magnetic Bearings, vdf Hochschulverlag AG, 1994

[25] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 327–331

[26] Karl Jousten (Hrsg.), Wutz Handbuch Vakuumtechnik, 9. Auflage Vieweg Verlag Braunschweig/Wiesbaden, S. 321–325

[27] Bayard, R. T. u. D. Alpert, Rev. Sci. Instr. 21 (1950) S. 571

[28] Hobson und Redhead, Can. J. Phys. 36 (1958) S. 271

[29] Dawson, Peter H., Quadrupole Mass Spectrometry and its Applications, American Institute of Physics (1997)

[30] Gross, Jürgen H., Mass Spectrometry: A Textbook, Springer (2011)

[31] Fachbericht Balzers BG 800003, Das Funktionsprinzip des Quadrupol-Massenspektrometers (1990)

[32] Redhead, P. A., Hobson, J. P. and Kornelsen, E. V., The Physical Basis of Ultrahigh Vacuum, Chapman & Hall, London (1968)

[33] DIN EN 1330-8:1998-7: Zerstörungsfreie Prüfung – Terminologie – Teil 8: Begriffe der Dichtheitsprüfung

[34] DIN EN 1779-8:1999-10: Zerstörungsfreie Prüfung – Dichtheitsprüfung – Kriterien zur Auswahl von Prüfmethoden und -verfahren

[35] G. E. Moore: Cramming more components onto integrated circuits. In: Electronics. 38, Nr. 8, 1965, S. 114–117

[37] P. Gonzáles et al.: FOUPs Polymers Against AMCs: The HF Case, Future Fab international, issue 42

[38] Jin, Weidong, Study of Plasma-Surface Kinetics And Feature Profile Simulation of Poly-Silicon Etching in Cl2/HBr Plasma, M.I.T., Dept. of Chemical Engineering