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Canada

BC 0601–1200 A/G

Pompes à vide sèches à vis

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Haute performance

Concept de vis sophistiqué, structure en forme de cloche, vis auto-équilibrées brevetées, excellentes qualités de fonctionnement, booster de vide intégré, parfaitement adaptée aux procédés de dépôt de couches atomiques froides, aux sas de chargement et aux chambres de transfert, ainsi qu'aux travaux de métrologie, de lithographie, de dépôt physique en phase vapeur, de recuit thermique rapide et de gravure comme sur l'oxyde, le silicone et le métal

Efficace

Faible coût de possession, maintenance minimale, intervalles de maintenance étendus, temps de fonctionnement élevé, refroidissement direct par eau

Compacte

Conception optimisée, moteur immergé à accouplement direct, pompe primaire et pompe booster combinées sur un châssis compact

Caractéristiques techniques

Marchés et applications

Semi-conducteur
  • Décapage/Cendrage
  • PVD
  • Si Poly etch
  • Dépôt léger
  • Implantation ionique
  • Métal et gravure haute K
  • Attaque à l’oxyde
  • Cobalt, WCVD, TiN et TDMAT
  • Recuit