Haute performance
Concept de vis perfectionné, excellentes qualités de fonctionnement, parfaitement adaptée au dépôt chimique en phase vapeur, au recuit thermique rapide ou au dépôt par couche atomique
Efficace
Faible coût de possession, maintenance minimale, intervalles de maintenance étendus, temps de fonctionnement élevé, refroidissement indirect par eau efficace, débit d'hydrogène élevé
Compacte
Conception optimisée, moteur immergé à accouplement direct
Caractéristiques techniques
Marchés et applications
Semi-conducteur
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LPCVD / Diffusion
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Si Poly etch
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PECVD
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Métal et gravure haute K
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Dépôt en couches atomiques (ALD)