Haute performance
Concept de vis perfectionné, excellentes qualités de fonctionnement, booster de vide intégré, parfaitement adaptée aux applications solaires, d'écrans plats et de semi-conducteurs, ainsi qu'aux procédés exigeants avec des gaz à haute température, comme la gravure et le dépôt chimique en phase vapeur, excellente manutention des poudres, vis à revêtement tantale pour applications exigeantes
Efficace
Faible coût de possession, maintenance minimale, intervalles de maintenance étendus, temps de fonctionnement élevé, débit d'hydrogène élevé, faible consommation d'énergie, contrôle de température variable
Compacte
Conception optimisée, moteur immergé à accouplement direct, pompe primaire et pompe booster combinées sur un cadre de base compact, faible niveau de vibration
Caractéristiques techniques
Marchés et applications
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Dépôt physique en phase vapeur (PVD)
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LPCVD / Diffusion
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Si Poly etch
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PECVD
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Métal et gravure haute K
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Cobalt, WCVD, TiN et TDMAT
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Dépôt en couches atomiques (ALD)
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Recuit
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Extraction du lingot