Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 参展 2025 年台湾半导体展

观众有机会与 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的专家讨论真空泵、污染管理解决方案、泄漏探测器、阀门、气体减排系统和全面的晶圆厂管理。Pfeiffer 普发为整个半导体工厂提供高质量的真空解决方案 - 从洁净室到排放 - 帮助以精确、运行可靠性和效率优化制造流程。许多观众参观了展位，并与专家讨论了半导体市场的未来、3D 包装以及人工智能和工艺的趋势。

适用于半导体工业的真空泵

展位上展示了几台半导体行业特别感兴趣的真空泵。Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的 HiCube Neo 真空泵装置是半导体工厂气体分析的理想选择。这些真空泵机组将涡轮分子真空泵与干式或油润滑式前级泵相结合。这些模块化装置使其能够实现低至 10^-10 hPa (mbar) 的真空度。

COBRA NX 0650A 是一种高性能干式螺杆真空泵。它可以达到高达 650 m³/h 的抽气速率和 ≤0.1 hPa (mbar) 的极限压力。它具有很高的蒸汽和颗粒耐受力，非常适合半导体行业的恶劣运行条件。

还展示了 UltiDry 多级罗茨真空泵。其无油多级压缩可确保产生洁净、干燥的真空，而不会造成污染，这对于半导体行业的敏感流程至关重要。UltiDry 具有增强的粉末管理功能，能够处理高入口流量并耐受腐蚀性气体，非常适合要求严苛的应用。

尾气处理系统

Pfeiffer 普发不仅展示了真空泵，还展示了 CT-TW-H，这是一款高温热湿式气体减排系统。CT-TW-H 融合了火焰尾气处理的广泛工艺适应性和等离子尾气处理无需燃料的优势。该系统运行成本低，二次排放少，并且在极低的氮氧化物排放水平下，能够以行业领先的标准分解分子工艺气体 NF₃。它们为化学气相沉积（CVD）和金属蚀刻工艺提供了可持续的解决方案，减少碳足迹。

屏幕上显示完整的产品组合

展位上的大型交互式触摸显示屏展示了 Pfeiffer 普发针对所有工厂地板的整个产品组合，例如用于洁净室的涡轮分子真空泵、阀门、压力表、泄漏探测器和污染管理解决方案，以及用于底板的多级罗茨真空泵。针对地下厂区，则展示了气体减排系统、干式螺杆真空泵、泄漏探测器以及多级罗茨真空泵。访客可以选择他们感兴趣的产品，并观看视频了解更多信息。