Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions auf der SEMICON Taiwan 2025

Die Messebesucher hatten Gelegenheit, mit den Experten von Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions über Vakuumpumpen, Lösungen für das Kontaminationsmanagement, Lecksucher, Ventile, Abgasreinigungssysteme und umfassendes Sub-Fab-Management zu sprechen. Pfeiffer bietet hochwertige Vakuumlösungen für die gesamte Halbleiterfabrik – vom Reinraum bis zur Sub-Fab -, die dazu beitragen, die Herstellungsprozesse präzise, zuverlässig und effizient zu optimieren. Viele Besucher nutzten die Gelegenheit, den Stand zu besuchen und mit den Experten über die Zukunft des Halbleitermarkts, 3D-Verpackungen sowie Trends in Künstlicher Intelligenz und Technologie zu diskutieren.

Vakuumpumpen für die Halbleiterindustrie

Am Messestand wurden mehrere Vakuumpumpen gezeigt, die für die Halbleiterindustrie besonders interessant sind. Die Vakuumpumpeneinheit HiCube Neo von Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions ist perfekt für die Gasanalyse in Halbleiterfabriken. Diese Vakuumpumpeneinheiten kombinieren eine Turbomolekular-Vakuumpumpe mit einer trockenen oder ölgeschmierten Vorpumpe. Mit diesen modularen Einheiten ist ein Vakuumniveau von 10^-10 hPa (mbar) erreichbar.

Die COBRA NX 0650A ist eine leistungsstarke trockene Schrauben-Vakuumpumpe. Sie kann ein Saugvermögen von bis zu 650 m³/h und einen Enddruck von ≤0,1 hPa (mbar) erreichen. Dank ihrer hohen Dampf- und Partikelverträglichkeit eignet sie sich ideal für die schwierigen Betriebsbedingungen in der Halbleiterindustrie.

Auch die mehrstufige Roots-Vakuumpumpe UltiDry wurde vorgestellt. Mit ihrer ölfreien mehrstufigen Verdichtung sorgt sie für sauberes, trockenes Vakuum ohne Verunreinigungen – entscheidend für die sensiblen Prozesse in der Halbleiterindustrie. Dank eines verbesserten Pulvermanagements und der Fähigkeit, einen hohen Saugstrom zu bewältigen sowie korrosiven Gasen standzuhalten, ist die UltiDry gut für strapazierende Anwendungen geeignet.

Abgasreinigungssystem

Neben Vakuumpumpen stellte Pfeiffer auch das CT-TW-H vor, ein thermisches Abgasreinigungssystem. Das CT-TW-H kombiniert die Vorteile der Verbrennung mit dem elektrisch beheizten Konzept der Abluftbehandlung. Diese Systeme zeichnen sich durch geringe Betriebskosten und weniger Sekundäremissionen aus und können das molekulare Prozessgas NF₃ auf höchstem Niveau mit extrem niedrigen NOx-Emissionen zerstören. Sie bieten eine nachhaltige Lösung mit minimalem CO2-Fußabdruck für CVD- und Metallätzprozesse.

Das komplette Produktportfolio auf einem Bildschirm

Auf einem großen interaktiven Touch-Display am Stand wurde das komplette Produktportfolio von Pfeiffer für alle Bereiche einer Fab gezeigt, darunter Turbomolekular-Vakuumpumpen, Ventile, Messgeräte, Lecksucher sowie Lösungen zum Kontaminationsmanagement für den Reinraum und mehrstufige Roots-Vakuumpumpen für die Sub-Fab. Für das Basement wurden Abgasreinigungssysteme, trockene Schrauben-Vakuumpumpen und Lecksucher sowie mehrstufige Roots-Vakuumpumpen vorgestellt. Besucher konnten die für sie relevanten Produkte auswählen und in informativen Videos mehr erfahren.