Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, SEMICON Korea 2026에서 절단 에지 기술을 선보이다

Pfeiffer Vacuum은 첨단 진공 펌프, 혁신적인 서비스 솔루션 및 프리미엄 밸브 등이 전시함으로써 반도체 산업을 위한 포괄적인 진공 솔루션 및 기술 전문 지식을 선보일 예정입니다. 특히 디지털 3D 팩 모델을 찾은 방문객은 클린룸에서 서브 팩에 이르기까지 전체 반도체 시설을 갖추도록 설계된 Pfeiffer Vacuum의 전체 포트폴리오에 대한 개요를 현장에서 확인할 수 있습니다.

혁신적인 진공 및 서비스 솔루션

전시 사항에는 반도체 제조 공정 관련 여러 혁신 및 핵심 기술 등이 포함됩니다.

반도체 제조업체를 위한 현장 머신 러닝 및 분석 서비스 ARGOS에는 생산 등급 머신 러닝과 수십 년간의 진공 디케이드 및 저감 전문 지식이 결합되어 있습니다. 운영 데이터를 우선순위가 지정된 위험 기반 조치로 변환하여 가동 시간을 늘리고, 총 소유비용을 줄일 뿐만 아니라 수율을 안정화합니다. 이러한 벤더 독립형 솔루션은 전적으로 현장에서 운영되어 민감한 공정 데이터를 고객이 통제하도록 해줍니다.

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions의 UltiDry 다단계 루츠 진공 펌프는 내구성 및 낮은 에너지 소비 모두가 필요한 까다로운 공정 용도로 설계되었습니다. 오일프리 다단계 압축 공정은 오염 없는 깨끗하고 건조한 진공을 보장하며 반도체 산업의 민감한 공정에 매우 중요합니다.

질소 흡입 용량 4,500 l/s의 ATH 4506 M 터보 진공 펌프는 반도체 제조 공정에 적합합니다. 부스 방문객들은 새롭게 출시된 이 펌프를 직접 확인할 수 있습니다. 이 펌프에는 별도의 외부 컨트롤 판넬 필요성을 없애주는 통합 컨트롤러가 포함되어 있습니다. 이러한 디자인 덕분에 설치가 간편하며 시스템 셋업을 위해 요구되는 공간 역시 적습니다. 다양한 버전으로 제공됨에 따라 개별 공정에 맞게 진공 펌프 온도를 조정할 수 있으며, 응축 및 입자 축적을 최소화하고 마모를 줄이며 예상치 못한 고장 시간을 방지합니다. 이는 신뢰도 향상, 일관된 제품 품질 및 사용자의 총 소유비용 절감으로 이어집니다.

정밀하고 신뢰할 수 있는 시스템 설계를 위한 진공 밸브

Pfeiffer Vacuum은 산업박람회에서 고진공 애플리케이션/응용 분야 전반에 걸쳐 효율적인 가스 흐름 제어 기능을 제공하면서 시스템 섹션을 안정적으로 분리하는 버터플라이 밸브 등과 같은 포괄적인 밸브 포트폴리오 중 일부를 전시하여 선보일 예정입니다. 또한, 특히 공간이 제한적이고 신뢰할 수 있는 진공 절연이 필요한 응용 분야에 적합한 부드러운 작동과 높은 전도도를 제공하는 진자 밸브가 선보일 예정입니다.

3D 모델로 소개되는 전체 반도체 제조 공장

전시된 다양한 기술 외에도 디지털 3D 모델로 제시되는 반도체 제조 공장은 클린룸에서 서브 팹에 이르기까지 제조 시설을 실제와 같이 보여줍니다. 방문객들은 절단 에지 가스 저감 시스템을 포함하는 Pfeiffer Vacuum의 다양한 기술을 설비에 통합된 상태로 각각 확인할 수 있습니다.