獲得專利的沖洗系統，顯著節約能源
UltiDry 的其中一項關鍵創新在於其獲得專利的沖洗注射系統，設計用於透過沖洗出粉末等污染物來保護真空泵浦。即使在粉末密集型製程中，此功能也能確保穩定效能和平穩運行。耗能量是半導體製造廠的一項主要成本因素。UltiDry 採用優化的多級魯式真空泵浦設計，與其同級的其他真空泵浦相比，可節省高達 87% 的能源。這不僅減少了碳足跡，還有助於客戶實現其永續發展和成本效益的目標。
真空泵浦可在 50 °C 至 270 °C 的廣泛溫度範圍內可靠運行，靈活適應不同的製程要求。因此，它同樣適用於對溫度敏感的鍍膜工藝以及腐蝕性半導體應用。UltiDry 能在不同的溫度條件下維持穩定的運行，為一致的產品品質和長時間的服務間隔提供支持。UltiDry 結合防腐蝕鍍膜、減少清除氣體用量和高能效，是一種耐用且低維護的解決方案，適用於高要求的製造環境。