性能卓越
先進的螺旋式設計,卓越的運行品質,非常適用於化學氣相沉積、快速熱處理或原子層沉積應用
高效
擁有成本低,維護少,保養間隔長,可長效運行,高效水冷卻,高氫氣輸送量
結構精巧
密閉式設計,直接安裝的密閉式馬達
技術規範
市場和應用
半導體
-
LPCVD/擴散
-
多晶矽蝕刻
-
PECVD
-
金屬與高介電常數材料的蝕刻
-
ALD
請更新您的瀏覽器。
您似乎正在使用舊版本 [ 技術 ]。 請更新您的瀏覽器,以獲得最佳的 Pfeiffer 網站體驗。
性能卓越
先進的螺旋式設計,卓越的運行品質,非常適用於化學氣相沉積、快速熱處理或原子層沉積應用
高效
擁有成本低,維護少,保養間隔長,可長效運行,高效水冷卻,高氫氣輸送量
結構精巧
密閉式設計,直接安裝的密閉式馬達