Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 在 2026 年中国半导体展会上展示尖端工艺

Pfeiffer 普发将展示其面向半导体行业的全方位真空解决方案和技术专业知识。展品包括先进的真空泵、创新的服务解决方案、污染物管理系统和高品质阀门。现场将展示 3D fab 模型，让观众直观地了解 Pfeiffer 普发的全套产品组合——从洁净室到 sub-fab，全方位装备整个半导体设施。

真空和服务解决方案的创新

展品中包含了多项针对半导体制造工艺的创新成果与关键技术。

ATH 4506 M 涡轮分子真空泵的氮气抽气速率为 4,500 l/s，是半导体生产工艺的理想选择。在展位上，观众可以一睹这款新发布真空泵的风采，其内置集成式调节器，无需单独的外部控制装置。这种设计不仅简化了安装，还减少了系统设置所需的空间。怠速模式可降低功耗，助力泵实现节能运行。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的 UltiDry 多级罗茨真空泵专为既需要坚固性、又需要低能耗的严苛工艺而设计。其无油多级压缩可确保产生洁净、干燥且无污染的真空环境，这对于半导体行业的敏感工艺至关重要。

半导体晶圆厂整体 3D 模型

除了展示的不同技术外，现场还将通过 3D 打印和数字模型，以实体形式生动呈现半导体晶圆厂的布局——涵盖从洁净室到 sub-fab 的各个区域。客户可以了解 Pfeiffer 普发的各种技术是如何集成在整个工厂设施中的，包括品牌的尖端尾气处理系统。

提高良率的污染管理解决方案

Pfeiffer 普发在该领域拥有数十年的经验，为半导体行业提供创新和全面的污染管理解决方案。为了检测和去除空气分子污染物，产品组合包括各种测量工具和解决方案，包括环境多端口控制系统 (AMPC) 和 Pod 分析仪系统 APA。这些解决方案使客户能够评估 FOUP 清洁效率、提高晶圆良率、管理晶圆 Q-Time、溯源晶圆缺陷的根本原因，以及监测无尘室内部的 FOUP 质量和内部污染物。

真空阀门实现精确可靠的系统设计

Pfeiffer 普发还将在展会上展示其全面阀门产品组合中的部分产品。现场展出的摆阀，具有平稳的致动和高电导率，尤其适用于空间有限和需要可靠真空隔离的应用。