Pfeiffer präsentiert Komplettlösungen auf der SEMICON Europa 2026

In der Halbleiterfertigung steigen die Anforderungen an Nachhaltigkeit, Produktivität und Prozesssicherheit. Auf der SEMICON Europa 2026 zeigt Pfeiffer, wie Hersteller diesen Herausforderungen mit integrierten Lösungen für alle Bereiche der Halbleiterfertigung begegnen können, vom Reinraum bis zur Abgasreinigung. Besucher können Technologien kennenlernen, die eine höhere Ausbeute ermöglichen und gleichzeitig die Umweltbelastung reduzieren. Anhand interaktiver Exponate und digitaler Erlebnisse zeigt das Unternehmen, wie sein umfassendes Portfolio die Effizienz über den gesamten Fertigungsprozess hinweg steigert.

Komplettlösungen vom Reinraum bis zur Abgasreinigung

Ein 3D-Fab-Modell und eine virtuelle Fab erwecken die Halbleiterfertigung zum Leben und zeigen, wo Technologien von Pfeiffer entlang des Produktionsprozesses eingesetzt werden. Von Kontaminationsmanagement und Vakuumerzeugung über die Abgasreinigung bis hin zum Service stellt das Fab-Modell die gesamte Bandbreite des Pfeiffer Portfolios vor. Es zeigt, wie das Zusammenspiel dieser Lösungen die Produktion optimiert, die Prozessstabilität verbessert und die Waferausbeute erhöht.

Innovationen für maximale Ausbeute

Weitere 3D-Modelle am Messestand präsentieren die verschiedenen Lösungen von Pfeiffer für das Kontaminationsmanagement, darunter den Ambient Particle Analyzer (APA), den Ambient Multi-Port Controller (AMPC) und die SmartClean Technologie. Sie unterstützen Hersteller dabei, molekulare und partikelförmige Verunreinigungen in der Luft zu messen, zu kontrollieren und zu beseitigen, um die Waferqualität zu verbessern, Defekte zu reduzieren und die Produktionsleistung zu steigern.

Für eine umweltfreundlichere Halbleiterfertigung

Besucher können zudem ein 3D-Modell eines Abgasreinigungssystems erkunden, das Technologien zur Erfassung und Reduzierung von Prozessemissionen in der Halbleiterfertigung zeigt. Direkt an der Prozessanlage installiert, helfen die Abgasreinigungslösungen Herstellern, die Emission von Gasen, die in modernen Halbleiterprozessen eingesetzt werden, effizient zu reduzieren. Dazu gehören auch Gase mit hohem Treibhauspotenzial. Mit bewährten thermischen, nasschemischen, Trockenbettabsorber- und Filtertechnologien deckt das Portfolio anspruchsvolle Anwendungen wie Ätzen, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Atomlagenabscheidung (ALD) und EUV-Lithografie ab. Die Lösungen minimieren Emissionen und gewährleisten gleichzeitig einen sicheren und zuverlässigen Betrieb. Damit unterstützen sie die Nachhaltigkeitsziele sowohl der Halbleiterhersteller als auch von Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions und tragen zugleich zu einer höheren betrieblichen Leistungsfähigkeit bei.

Servicekompetenz über den gesamten Lebenszyklus der Halbleiterfertigung

Neben seinem Technologieportfolio präsentiert Pfeiffer ein umfassendes Serviceangebot für den gesamten Lebenszyklus von Halbleiterequipment und -anlagen. Besucher des Messestands haben die Möglichkeit, sich mit Experten auszutauschen und mehr darüber zu erfahren, wie Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions Kontaminationsmanagement, Vakuumtechnologie, Abgasreinigungssysteme und umfassende Serviceleistungen zu einem ganzheitlichen Ansatz für eine leistungsfähige Halbleiterfertigung verbindet.