- 几乎免维护
- 高效
- 安全
干式床吸附塔
许多生产工艺会产生有害物质和气体，如果不加以干预，这些物质和气体会释放到环境中。Pfeiffer 的 CT-D 干床式吸附塔产品系列包括三种产品：CT-D 使用点吸附塔、CT-D-E 应急吸附塔和用于在更换装瓶时吸收残余气体的 CT-D-VLC 产品。
这些被动式尾气处理系统对设施的要求极低，具备诸多优势。除电力供应外，干床式吸附塔系列只需压缩空气或氮气来驱动阀门。这些系统占地面积小，可安全吸收剧毒有害气体，如砷化氢（AsH3）和磷化氢（PH3）。
Pfeiffer 的干床式吸附塔广泛应用于各种行业，尤其是半导体、光伏和 LED 工艺， 此外，它还适用于大学和研究机构。
优势
采用化学吸附技术处理活性、有毒及腐蚀性气体，符合最高安全标准。
通过电化学清洁气体监控和集成旁路模式，即使主吸收剂饱和时也能执行吸收过程。
不同的颗粒容器尺寸，以满足不同的吸收要求。
了解我们的产品系列
CT-D 使用点吸收器
优势
CT-D 使用点吸收器只需要电力和压缩空气或氮气（N₂）即可运行，因此易于集成到现有基础设施中，并确保最低的介质消耗。获得专利的吸收器设计支持低维护要求，其中包括一个冷阱，可防止堵塞并延长颗粒的使用寿命。这些因素共同显著降低了运行成本。
该颗粒材料专为半导体、光伏和其他特殊气体应用而开发，可确保在要求严苛的环境中保持高性能和安全性。通过化学吸附，容器和旁路中的颗粒吸收有毒、腐蚀性或易燃气体及其副产物，将其转换为非挥发性无机固体颗粒。因此，排气中的气体浓度可靠地保持在阈值极限值 (TLV) 以下。
模块可提供 30、60、120 升容器尺寸，为不同的工厂配置提供灵活性，同时保持最小的占地面积。每个装置设备配备齐全，具备触摸显示屏、终点检测、辅助启动装置和进气口压力传感器工艺。末端检测可识别吸收器颗粒何时饱和，并重新引导至旁路。在此处，颗粒吸收剩余气体，从而完成流程并避免任何未经处理的有毒气体逸出。
优势
半导体制造等流程中使用的危险气体通常来自真空外壳中的气缸，称为气柜。CT-D-E 可在发生故障或紧急情况时可靠捕获一个或多个气缸泄漏导致的受污染的环境空气，从而为您的供气装置提供高安全水平。它以被动方式运行，无需电力或额外的介质供应。
每个吸收器的尺寸和配置都经过单独设计，以满足您的特定要求。此外，精确的颗粒或颗粒混合物由应用定义，以获得有毒、腐蚀性、易燃性产品和副产品的最佳吸收能力。通过化学吸附，有害气体永久性地结合在颗粒中，消除了任何解吸风险，确保长期封存。
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CT-D-VLC 排气管滤芯
定制化吸收器与吸收器解决方案
可靠清洁特殊排放流量
如果我们的其他工艺都无法完全满足您的需求，则定制的吸收器和吸附器解决方案是理想的选择。在仔细检查您的流程并与您进行深入沟通后，我们将根据您的个性化要求开发出完美匹配的系统。此类系统使用干床式吸附塔提供被动运行，具有定制的颗粒材料，例如用于清除 VOC（挥发性有机化合物）的活性炭。
它具有较低的介质消耗量和较长的使用寿命，安装和维护要求极低。此外，您获得的系统将经过专门设计，以优化并延长吸附剂更换周期。可选配多种安全功能，支持全自动工厂控制与监测系统无缝集成。成熟的再灌装系统和全面的服务可确保持续的效率和运行可靠性。
如果我们的其他工艺都无法完全满足您的需求，则定制的吸收器和吸附器解决方案是理想的选择。在仔细检查您的流程并与您进行深入沟通后，我们将根据您的个性化要求开发出完美匹配的系统。此类系统使用干床式吸附塔提供被动运行，具有定制的颗粒材料，例如用于清除 VOC（挥发性有机化合物）的活性炭。
它具有较低的介质消耗量和较长的使用寿命，安装和维护要求极低。此外，您获得的系统将经过专门设计，以优化并延长吸附剂更换周期。可选配多种安全功能，支持全自动工厂控制与监测系统无缝集成。成熟的再灌装系统和全面的服务可确保持续的效率和运行可靠性。
