Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 在 2026 年中國 SEMICON 展覽會上展示尖端技術

Pfeiffer 將展示其半導體產業的全方位真空解決方案和技術專業知識。展示內容包括先進的真空泵浦、創新的服務解決方案、污染管理系統和高品質閥門。3D 工廠模型將為訪客提供 Pfeiffer 完整產品組合的實際概覽，其設計旨在裝備整個半導體設施——從無塵室到子工廠。

真空與服務解決方案的創新

展品中包括多項半導體生產製程的創新和關鍵技術。

ATH 4506 M 渦輪分子真空泵浦的氮氣抽氣速率為 4,500 l/s，是半導體生產製程的理想選擇。在展位上，訪客可以探索這款新推出的真空泵浦，其具有整合式控制器，不需要單獨的外部控制裝置。這種設計能簡化安裝並減少系統設定所需的空間。怠速模式可降低消耗功率，有助於泵浦高能效運行。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 的 UltiDry 多段魯式真空泵浦，專為需要堅固性與低耗能量的高要求製程而設計。其無油多級壓縮可確保乾淨、乾式真空，且不會造成污染，這對半導體產業的敏感製程至關重要。

整個半導體製造廠的 3D 模型

除了介紹的不同技術之外，半導體製造廠的 3D 列印和數位模型將以實物展示製造設施的設置——從無塵室到子工廠。客戶可以探索 Pfeiffer 各種技術在整個設施中的整合位置，包括該品牌的尖端氣體減排系統。

污染管理解決方案可提高產量

Pfeiffer 在這個領域擁有數十年的經驗，為半導體產業提供創新且全面的污染管理解決方案。為了偵測和去除空氣中的分子污染物，產品組合包括多種量測工具和解決方案，包括環境多埠控制器系統 (AMPC) 和小孔分析儀系統 APA。這些解決方案能讓客戶評估 FOUP 清潔效率、改善晶圓產量、管理晶圓 Q-Time、識別晶圓瑕疵的根本原因，並監控 FOUP 品質以及無塵室環境中的內部污染。

真空閥門，用於精確可靠的系統設計

Pfeiffer 還將在展會上展示其全面閥門產品組合的零件。展出的擺動閥門可提供平穩的致動和高電導值，特別適用於空間有限且需要可靠真空隔離的應用。