Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 在 SEMICON Taiwan 2026 展覽會上展示尖端技術

Pfeiffer 將展示其面向半導體產業的完整後處理解決方案產品組合。展示內容包括先進的真空泵浦、創新的服務、污染管理系統和高品質閥門。3D 工廠模型將為訪客提供 Pfeiffer 完整產品的實際概覽，其設計旨在裝備從無塵室到子工廠的整個半導體設施。

真空與服務解決方案的創新

展品中包括多項半導體生產製程的創新和關鍵技術。UltiDry 多段魯式真空泵浦專為需要堅固性與低耗能量的嚴苛製程要求而設計。其無油、多級壓縮可確保乾淨、乾式真空，且不會造成污染，這對半導體產業的敏感製程至關重要。

廢氣處理系統

Pfeiffer 亦將展示高溫熱濕氣體減排系統。它將火焰減排的廣泛製程覆蓋範圍和電漿減排的無燃料特性相結合。系統運作成本低，次級排放少，並且能在 NOx 排放量極低的情況下以領先水準分解 NF₃ 分子製程氣體。它為 CVD 與金屬蝕刻製程提供永續解決方案，碳足跡極小。

污染管理解決方案可提高產量

Pfeiffer 在這個領域擁有數十年的經驗，為半導體產業提供創新且全面的污染管理解決方案。為了偵測和去除空氣中的分子污染物和顆粒，產品組合包括多種量測工具和解決方案，包括環境多埠控制系統 (AMPC) 和小孔分析儀系統 APA 以及 ADPC。這些解決方案能讓客戶評估 FOUP 清潔效率、改善晶圓產量、管理晶圓 Q-Time、識別晶圓瑕疵的根本原因，並監控 FOUP 品質以及無塵室環境中的內部污染。此外，還提供用於 FOUP 和框架盒的全新清潔和量測解決方案。

螢幕上顯示完整的產品組合

攤位上的大型互動式觸控螢幕將展示完整的 Pfeiffer 產品組合，從無塵室的渦輪分子真空泵浦、閥門和計量表，到地下室的氣體減排系統和製程真空泵浦。此外，它還涵蓋整個工廠的污染管理解決方案、檢漏儀和配件。訪客可以選擇他們感興趣的產品，並觀看資訊影片以了解更多資訊。

整個半導體製造廠的 3D 模型

除了介紹的不同技術之外，半導體製造廠的 3D 列印和數位模型將以實物展示 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 製造設施的設置提供的全球方案，涵蓋從無塵室到子工廠。客戶可以探索 Pfeiffer 各種技術在整個設施中的整合位置，包括該品牌的尖端氣體減排系統。