- 高效
- 便於保養
- 堅固耐用
濕氣體處理
在許多生產製程中會產生有害物質，若不加以干預，可能會隨廢氣一起釋放。濕式洗滌可對水溶性物質進行洗滌並固定到清洗液中，然後安全地對其進行廢棄處理。我們的 CT-W 產品系列為各行各業的每種應用提供合適的濕式洗滌解決方案。從半導體製造到 LED 和光伏裝置的生產，以及在大學和其他研究機構。
益處
具有兩個濕法階段，效率高
有效去除水溶性氣體和顆粒
內部中和處理，以將淡水消耗量降至最低
CT-W 濕式洗滌塔（使用點）
CT-W（使用點）的益處
CT-W 能有效處理蝕刻與磊晶等應用中的 HCl、HF、SiH2Cl2、SiCl4 和 NH3 以及其他酸性與鹼性廢氣。由於它在製程中使用極少的淡水，因此運作成本保持在較低水平。
此洗滌塔具有靈活性，可使用酸性或鹼性中和劑進行操作。這些中和劑用於中和廢水，廢水的 pH 會在洗滌過程中隨所處理氣體的性質而改變。
可透過以下方式提升正常運行時間，例如機械式入口清潔、N2 文氏管沖洗以及針對 WF6、BCl3、AlCl3 和 NH4Cl 的加熱式排氣氣體入口，確保正常運行時間達到 99% 以上。此外，維護快速且簡單。
還提供適用於高 H2 排氣流量的防爆版本。
CT-W 中央濕式洗滌塔（管道末端）
適用於高流量氣體處理
- 高效
- 便於保養
- 可自訂的配置
CT-W（管道末端）的益處
CT-W 濕式洗滌塔是一款管道末端中央洗滌塔，對水溶性氣體（包括 NH3、HCl、HF、甲醇和乙醇）具有極高的清潔效率。它專為高氣體流量而設計，包含多個高壓逆流噴嘴，可有效清潔和分離最小的顆粒物質。洗滌塔可以進行客製化並適應您的製程。可使用酸性和鹼性中和劑，並根據流量和氣體類型提供個人化的設備配置。