COBRA Semicon

Las bombas de vacío secas de tornillo COBRA BC son perfectas para tareas en la fabricación de semiconductores, especialmente en cámaras de transferencia y bloqueo de carga. Entre otras aplicaciones de estas bombas figuran la metrología, la litografía, la deposición física de vapor (PVD), el recocido rápido (RTA) y el grabado de silicio.

El diseño de tornillo autoequilibrado patentado garantiza unos niveles de vibración mínimos y un funcionamiento silencioso.

Los rotores de tornillo de las bombas de vacío COBRA BC están fabricados mediante colado monopieza para evitar huecos. Esto hace imposible la entrada de fluidos o partículas del proceso. Por tanto, se evitan también la corrosión y la deposición.

Las bombas de vacío COBRA BC tienen un diseño en forma de campana: el doble rotor de paso variable se monta en voladizo solo en el lado motor. Gracias a su diseño exclusivo de «rodamiento sin contacto», no se requieren rodamientos en el lado de aspiración. Por tanto, el medio bombeado no entra en contacto con los rodamientos. Esto garantiza una generación de vacío limpia y permite recuperar totalmente el medio bombeado.

Las bombas de vacío de la serie COBRA BC utilizan una eficiente refrigeración por agua directa. De este modo, se mantiene una distribución uniforme de la temperatura en todo el cuerpo de la bomba. Además, se garantiza una estabilidad térmica durante el proceso.

El protocolo de comunicación totalmente abierto (Modbus TCP-IP) permite controlar todas sus funcionalidades. Esto incluye los modos inactivos y el variador de frecuencia. El protocolo de comunicación puede adaptarse fácilmente a un protocolo de red específico usando componentes de interfaz estándar.

Un motor sellado montado directamente permite que la serie COBRA BC tenga unas dimensiones muy compactas. Gracias a su diseño adaptable a cada instalación, pueden reacondicionarse de forma fácil y rápida en sistemas existentes.

Las bombas de vacío secas de tornillo COBRA DS son los generadores de vacío ideales para aplicaciones exigentes de semiconductores, especialmente cuando se requiere un alto rendimiento de hidrógeno. Por esta razón, son perfectas para la deposición química de vapor (CVD), los tratamientos térmicos rápidos (RTP) o la deposición de capas atómicas (ALD).

Los diferentes tamaños de la serie COBRA DS cuentan con un booster de vacío integrado de alto rendimiento. Esta combinación de bomba primaria y booster de vacío consigue caudales más altos y vacíos límite.

El diseño de tornillo autoequilibrado de la bomba de vacío es una innovación patentada. Esta característica garantiza una excelente manipulación del polvo y un alto tiempo de actividad.

Los rotores de tornillo de las bombas de vacío COBRA DS están fabricados mediante colado monopieza para evitar huecos. Esto hace imposible la entrada de fluidos o partículas del proceso. Por tanto, se evitan también la corrosión y la deposición.

Las bombas de vacío de la serie COBRA DS usan una eficaz refrigeración por agua indirecta. Como resultado, se puede controlar la distribución de la temperatura por todo el cuerpo de la bomba. Es posible responder a las variaciones del proceso en cualquier momento.

Gracias a su diseño adaptable a cada instalación, las COBRA DS pueden reacondicionarse de forma fácil y rápida en sistemas existentes.