氦氣噴灑可準確定位洩漏
在大型真空系統中,即便微小的洩漏也會影響效能、污染製程或延遲操作。壓力上升或下降測試通常表明存在洩漏,下一步是快速可靠地偵測位置。這時氦氣噴灑就變得至關重要。這種偵測方法在廣泛的壓力範圍內都非常有效,並且支援定性測試。
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由於氦氣噴灑不僅能確認是否存在洩漏,還能定位洩漏,因而可將「檢漏儀」變成真正的洩漏查找器。
半導體製造面臨的挑戰
系統建置面臨的挑戰
UHV 環境中的挑戰
(例如真空爐或鍍膜機)
ASM 340
ASM 310
ASM 390/392
洩漏原因可能是:
當滯留氣體(通常是水蒸汽)從螺栓螺紋或多孔材料等空腔中緩慢釋放時,即發生虛擬洩漏。雖然並未真正發生違規,但這種脫氣可以模擬洩漏。
它們在分壓狀態下可能難以偵測,需要高靈敏度的方法來偵測洩漏。需要高準確度的氦氣檢漏儀或擴展監控來識別這些洩漏。
不能。WD-40 會在真空環境中留下油性殘留物和污染物,尤其是在低於 1×10⁻³ hPa 的情況下。改用異丙醇或其他酒精基液體,它們會蒸發乾淨並暫時密封洩漏,指示洩漏位置。
氦氣是多種洩漏試驗方法中的首選示蹤氣體,特別是在真空環境中。
原因如下:
現代氦氣檢漏儀(例如 ASM 系列)支援:
在可用的洩漏試驗方法中,氦氣噴灑對於偵測大多數相關洩漏具有足夠的準確度。氦氣噴灑用於定位,而非絕對速率量測。它可以偵測到低至約 10⁻⁷ 至 10⁻⁹ mbar∙l/s 的洩漏,適用於大多數真空應用。
優勢:
氦氣噴灑與嗅探只是幾種真空洩漏試驗方法中的兩種。選擇哪種方法取決於壓力條件,以及系統是處於真空狀態還是充滿空氣。
氦氣噴灑 | 氦氣嗅探 | |
|---|---|---|
氦氣流量 | 外 → 內 | 內 → 外 |
應用案例 | 腔體內的真空 | 加壓腔體 |
氦氣數量 | 小型、可控 | 完全加壓 |
大多數偵測器都支援這兩種模式。對於真空洩漏偵測,噴灑仍然是最高效且最具成本效益的方法。
在大型系統中,氦氣可能需要一些時間才能通過洩漏路徑。優化方式:
可以,特別是在偵測由空氣或其他氣體進入所造成的洩漏時,四極質譜儀 (QMS) 等替代方法可提供額外的準確度。
QMS 可偵測氮氣、水蒸汽或氬氣等氣體。它們在診斷、製藥和研發環境中非常有用,可透過質荷比分析洩漏。
您的選擇應反映您的設定要求,包括移動性、反應時間、抽氣速率和整合靈活性:
正確的工具可以讓氦氣洩漏偵測更加精確和更有效率。
主要配件包括: