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半導體製造

Q: Pfeiffer 如何支援晶圓製造商？

我們提供先進的 汙染管理解決方案 ，使半導體製造商能夠即時監控潔淨室環境。透過及早偵測出汙染物，我們的解決方案有助於將產量損失降至最低。

Q: Pfeiffer 提供哪些泵浦技術？

我們的乾式真空泵浦系列包括 螺旋式真空泵浦 和 多級魯式真空泵浦 。

Q: 為何半導體產業的真空泵浦如此專業化？

半導體產業中的真空度必須根據特定應用、工具類型和製程配方精確選擇。每道 沉積 和 蝕刻 製程（如 ALD、PECVD、CVD 和 PVD）都需要受控的真空度和壓力，以及與各種製程氣體之相容性。

Q: 真空泵浦如何支援矽晶圓生產？

真空泵浦在維持半導體製程（如 沉積 、 蝕刻 、PVD、 微影 、電漿蝕刻和 ALD）所需之超潔淨環境方面扮演著關鍵角色。藉由確保穩定的真空狀態，有助於防止顆粒汙染並實現晶圓製造所需之高精確度。 從傳統矽到碳化矽 (SiC) 和氮化鎵 (GaN) 等先進材料，真空是所有晶圓技術的關鍵。

Q: Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 是否是降低半導體製程中耗能量的合適合作夥伴？

是的。我們提供多種半導體產品，例如 真空泵浦 和製程 氣體減排系統 ，運用先進技術設計，使能源、氮氣和水的使用量降至最低。我們的解決方案與產業的永續發展目標相符，有助於製造商降低其環境足跡，而不影響效能。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 是半導體產業的完整解決方案供應商。

創新的全面產品組合應用於從潔淨室到底層設施區的矽晶圓生產，透過避免汙染和節約能源來提升產量。

聯絡我們

半導體產業的真空技術

半導體產業推動技術進步，經由智慧型手機和人工智慧等設備深刻影響著日常生活。這些創新的核心是微晶片，這是小巧卻極為複雜的組件，需要高度精確且無汙染的製造環境。

先進的真空技術對保持半導體製造所需之無汙染環境至關重要。

半導體製造是發展最快的產業之一，對效能、先進技術和永續性的要求不斷提升。先進的真空技術對保持所需無汙染環境至關重要。

憑藉近 40 年的專業知識，Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 提供豐富的高品質產品組合，服務整個半導體製造製程——從真空腔體到廢氣處理系統。作為真空和製造解決方案的一站式供應商，我們深切理解半導體產業面臨的挑戰。Pfeiffer 是協助半導體業者克服晶圓製造挑戰、開發創新產品的理想合作夥伴。我們的職責在於透過產品協同效應整合各環節，提供客製化解決方案，以確保高產量、減少耗能量並將碳足跡降至最低。

真空應用

半導體服務

合適的產品

半導體製造中的真空應用

半導體製造廠採多層式結構設計，而 Pfeiffer 產品支援三大關鍵領域，以確保可靠的晶片製造：在最上層，潔淨室維持超低顆粒含量，用於晶圓加工。在下一層，次層區容納維持清潔室運作所需之公用設施。在底層，底層設施區（附屬製造區）設有真空泵浦、氣體處理，還有其他更多對製程穩定性、安全和環境控制至關重要之系統。

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潔淨室

半導體潔淨室是特殊環境，旨在半導體設備製造製程中將空氣中微粒、汙染物和有害物質降至最低。這類受控環境對維持半導體製造所需之高清潔度標準至關重要，即使是一顆微粒，也可能干擾運行並影響產品品質。

Pfeiffer 提供堅固耐用的渦輪分子真空泵浦、汙染管理系統和閥門，以滿足並維持半導體製造所需之最佳壓力和清潔度。此外，我們的高效能設備可預防晶圓汙染並適應製程演進，從而降低總擁有成本。

適配產品

次層區

在潔淨室的架高地板下方，次層區設有關鍵公用設施，包括空氣分配、電纜和化學品供應線，確保潔淨室運作順暢。

Pfeiffer 是首家獲得主要半導體工具製造商認證的供應商，可提供使用點真空泵浦，確保 load lock 和移轉工具腔體中的真空。

透過先進的真空泵浦效能提升生產力，優化工具操作。
使用高能效、低能耗的真空泵浦，降低總擁有成本。
使用精巧的使用點真空泵浦，優化潔淨室空間。
最小占地面積與低噪音等級，簡化安裝與維護。

這些解決方案有助於提高效率、減少耗能量，滿足半導體製造環境的嚴苛要求。

合適的產品

底層設施區

附屬製造區（底層設施區）位於潔淨室下方，由一或兩層底層設施構成。底層設施區包含真空泵浦、廢氣減排系統和排氣管理系統，以維持製程穩定性、安全和環境控制。

Pfeiffer 提供一系列堅固耐用又高能效的解決方案，以優化附屬製造區運作：

透過可靠產品和數位監控來提高生產力，防止意外故障發生。
使用低功耗、節水節氮的乾式真空泵浦降低總擁有成本，減少運作成本並延長維護週期。
透過將排放量和環境影響降至最低的高效廢氣減排系統，支援永續發展目標。
藉助廢氣減排系統的預測性維護解決方案與縮短現場維護操作，減少停機時間。

合適的產品

真空應用一覽

潔淨室

次層區

底層設施區

半導體服務

我們是為您提供尖端半導體服務解決方案的一站式服務站。

憑藉密集的全球服務和支援網路，無論何時何地，我們始終貼近半導體客戶。
我們以最短處理時間提供最高品質的維修、現場服務及技術支援，憑藉專業技術團隊確保設備性能最佳。

產品整新

Pfeiffer 為半導體製造推出全新真空泵浦產品整新服務。不要讓公司停下來，降低停機時間風險。
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全方位的附屬製造區管理

全面的現場服務解決方案，為您的半導體製造廠提供安全和穩定的生產環境。
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氣體減排服務

全方位服務套件，遵循清潔系統的設計和安裝。
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ARGOS

ARGOS 是一項全面的現場預測性維護服務，可監控半導體製造廠中的所有事件和變化。
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半導體服務地點

搜尋您的半導體服務地點
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半導體產品組合

渦輪分子真空泵浦

建立高真空和超高真空狀態的必要條件
渦輪分子真空泵浦
汙染管理系統

提高半導體產業的產量
汙染管理系統
檢漏儀

對於確保產品品質和安全至關重要
檢漏儀
氣體減排系統

創新解決方案，打造潔淨環境
氣體減排系統
乾式真空泵浦

多級魯式真空泵浦、螺旋式真空泵浦和渦捲式真空泵浦
乾式真空泵浦
真空閥門

確保精確控制和可靠性
真空閥門
真空腔體

適合任何應用的小型至大型腔體
真空腔體
真空組件

高品質組件，提供可靠效能和多樣應用
組件與配件

以 3D 模式探索整體製造廠解決方案

了解 Pfeiffer 真空解決方案如何無縫融入半導體製造的每個階段。瀏覽互動式 3D 模型，觀看產品如何運行——從潔淨室到附屬製造區等。

探索我們的 3D 製造廠模型

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直到門打開

與 Pfeiffer 共同推動半導體產業的永續發展

隨著半導體製造的發展，將環境影響降至最低已成為首要任務。Pfeiffer Vacuum+Fab 解決方案透過面向所有真空度的高能效解決方案降低功耗、水和氮氣消耗量，推動永續發展。我們的產品使用壽命長，透過減少廢棄物，進一步支持永續發展。

我們的高效廢氣減排系統確保卓越的破壞和去除效率（DRE），進而減少排放。此外，製造設施經過能效分析並使用可再生能源運作，藉此強化我們對綠色產業的承諾。

Pfeiffer 半導體新聞

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 推出 UltiDry 多段魯式真空泵浦

隸屬於全球 Busch Group 的 Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 推出全新 UltiDry 多段魯式真空泵浦。UltiDry 設計用於高要求的半導體應用，結合穩定效能、高能效和製程靈活性。

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Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions at SEMICON Taiwan 2025

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions – a member of the global Busch Group – presented its comprehensive portfolio for the semiconductor industry at SEMICON Taiwan 2025, which took place from September 10 to 12 at the Taipei Nangang Exhibition Center.

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Pfeiffer Presents Advanced Vacuum Solutions at SEMICON India 2025

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions, a member of the global Busch Group, is proud to announce its participation at SEMICON India 2025, taking place from September 2 to 4 at Yashobhoomi (India International Convention Centre) in New Delhi, bringing vacuum and gas abatement technologies to India’s rapidly growing semiconductor sector.

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Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions at SEMICON Southeast Asia 2025

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions – a member of the Busch Group and a global leader in vacuum and gas abatement technology – concluded a highly successful showcase at SEMICON Southeast Asia 2025. The event took place from May 20 to 22 and was the first SEMICON Southeast Asia in Singapore since 2013.

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Showcasing Innovation: Busch Group at SEMICON China 2025

The three companies of the Busch Group – Busch Vacuum Solutions, Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions and centrotherm clean solutions – will present their extensive range of vacuum solutions jointly at SEMICON China 2025.

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Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions Presents the New HiScroll 46

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions – a member of the global Busch Group – announces the launch of the HiScroll 46, the newest member of its HiScroll series.

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Joint Appearance of the Busch Group Companies at Semicon Korea 2025

The three companies of the Busch Group – Busch Vacuum Solutions, Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions and centrotherm clean solutions – announce their joint presence at Semicon Korea 2025.

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Joint Appearance of the Busch Group Companies at Semicon Japan 2024

The three companies of the Busch Group – Busch Vacuum Solutions, Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions and centrotherm clean solutions – announce their joint presence at Semicon Japan 2024.

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常見問題

Pfeiffer 如何支援晶圓製造商？

我們提供先進的汙染管理解決方案，使半導體製造商能夠即時監控潔淨室環境。透過及早偵測出汙染物，我們的解決方案有助於將產量損失降至最低。

Pfeiffer 提供哪些泵浦技術？

我們的乾式真空泵浦系列包括螺旋式真空泵浦和多級魯式真空泵浦。

半導體產業的真空環境有何獨特性？

在半導體產業中，真空環境必須符合嚴格的潔淨室標準。所有組件（包括真空泵浦）均必須符合高度專業化的產業規範。

為何半導體產業的真空泵浦如此專業化？

半導體產業中的真空度必須根據特定應用、工具類型和製程配方精確選擇。每道沉積和蝕刻製程（如 ALD、PECVD、CVD 和 PVD）都需要受控的真空度和壓力，以及與各種製程氣體之相容性。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 能否提供客製化真空系統？

可以，Pfeiffer 可根據半導體製造商的特定需求提供客製化真空系統。我們結合豐富的堅固耐用高能效產品組合與深厚的技術專業知識，為所有真空範圍設計解決方案——從大氣壓力到超高真空。

真空泵浦如何支援矽晶圓生產？

真空泵浦在維持半導體製程（如沉積、蝕刻、PVD、微影、電漿蝕刻和 ALD）所需之超潔淨環境方面扮演著關鍵角色。藉由確保穩定的真空狀態，有助於防止顆粒汙染並實現晶圓製造所需之高精確度。

從傳統矽到碳化矽 (SiC) 和氮化鎵 (GaN) 等先進材料，真空是所有晶圓技術的關鍵。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 是否是降低半導體製程中耗能量的合適合作夥伴？

是的。我們提供多種半導體產品，例如真空泵浦和製程氣體減排系統，運用先進技術設計，使能源、氮氣和水的使用量降至最低。我們的解決方案與產業的永續發展目標相符，有助於製造商降低其環境足跡，而不影響效能。

Pfeiffer 為何提供寬溫域乾式真空泵浦？

寬溫域設計使乾式真空泵浦有效處理多種製程氣體，從低溫下的敏感前驅物到高溫下的可冷凝氣體。此功能有助於防止物質在真空系統內堆積，確保在嚴苛要求的半導體應用中穩定運行、提升可靠性並延長產品使用壽命。

此溫度適應性透過整合於產品中的特製組件實現。請聯絡我們，尋找最適合特定製程要求的解決方案。