RGA 如何與四極桿質譜儀協同運作
四極桿質譜儀 (QMS) 由三個主要組件(離子源、質譜濾波器和偵測器)組成,這些組件共同構成實際的分析儀。QMS 與其他質譜儀的不同之處在於其四極桿系統。要求:10⁻⁴ hPa (mbar) 或更低的工作壓力極為重要。如果連接的真空腔體自然無法達到此壓力,則需要專用真空系統(通常結合底泵浦和渦輪分子真空泵浦)來維持最佳狀態。在較高壓力下運行可能會損壞 QMS,因此強烈建議整合總壓力量測。
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殘餘氣體分析 (RGA) 是一種用於確定系統中存在哪些氣體以及其含量的方法。它依賴於質譜法,其中將分子電離,並使用四極桿質譜濾波器根據其質荷比 (m/z) 對所得離子進行分類。這讓系統能夠根據其特徵質量峰值來偵測個別氣體種類、碎片和同位素。
要識別氣體組成,必須解析偵測到的質譜,這是將測得的峰值與已知氣體或分子碎片連結起來的製程。這使得 RGA 成為瞭解真空品質、偵測污染物和即時監控製程氣體的強大工具。
RGA 表示殘餘氣體分析,是指偵測並識別系統內殘留或釋放的氣體。這些殘留氣體可能來自洩漏、材料脫氣、製程副產物或污染。RGA 用於監控和分析這些氣體,以確保真空完整性、偵測污染物或追蹤冷凍乾燥、熱處理或高真空研究等應用中的製程氣體行為。
是的。殘餘氣體分析可根據應用適應不同的壓力範圍。在高真空系統中,RGA 通常會在封閉的靜態環境中分析低濃度的背景氣體。但在大氣壓力或接近大氣壓力的製程中,例如熱分解研究或氣體反應監控,RGA 可與特別設計的入口系統結合使用,以處理持續的氣體流量,並降低分析儀前的壓力。
這意味著無論您是在密封的 UHV 腔體中分析微量氣體,還是在加熱的大氣製程中監控副產物,都可以相應地配置 RGA,以提供有意義且可靠的結果。
在技術上,兩個裝置都是質譜儀,但其用途不同。
檢漏儀經過優化,可尋找一或兩種示蹤氣體,通常是氦氣或氫氣。這使其可以更簡單、更快速地找出真空系統中的洩漏,並使用專為偵測特定氣體而量身打造的質譜濾波器。
另一方面,殘餘氣體分析儀 (RGA) 可偵測更廣泛的質量範圍內的眾多氣體種類和碎片。它也可以用於洩漏偵測,但為此目的使用 QMS 通常有些大材小用,除非您也有興趣識別其他氣體種類。
簡而言之:檢漏儀是一種專注且具有成本效益的氦氣或氫氣偵測工具,而 RGA 則能讓您瞭解完整的氣體組成。
四極桿質譜儀根據其質荷比 (m/z)來偵測氣體,從質量 1 u(統一原子質量單位)開始。這包括個別氣體分子、其同位素以及電離過程中產生的碎片。視裝置和配置而定,適用不同的質量上限:
分壓是指單一氣體在混合氣體中的單獨壓力貢獻。在真空系統中,總壓力是每種存在的氣體種類的所有分壓之和。
殘餘氣體分析 (RGA) 會測量這些分壓,以確定存在哪些氣體以及其含量。這對於識別污染物、監控製程氣體組成和評估真空品質至關重要。與總壓力量測不同,RGA 提供氣體特定的洞察,這對於那些即使是極微量的特定氣體也會影響產品品質或製程穩定性的應用而言至關重要。
單一裝置 | 完整解決方案 | 標準(模組化) | 可客製化 | |
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OmniStar/ThermoStar | ✓ | ✓ | ✓ | |
PrismaPro | ✓ | ✓ | ||
HiQuad Neo | ✓ | ✓ | ||
HiCube Neo RGA | ✓ | ✓ | ✓ | |
OmniGrade | ✓ | ✓ | ✓ |
無論形式如何,所有 Pfeiffer RGA 系統都具有以下共同點: