請更新您的瀏覽器。

您似乎正在使用舊版本 [ 技術 ]。 請更新您的瀏覽器,以獲得最佳的 Pfeiffer 網站體驗。

con23_870_graphicsr_d_1200x675_wip_v1_sv_kopie

研究與開發中的真空技術

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 作為受全球科學機構和高校信賴的公司,提供完整的真空系統,為全球實驗室和大型科學設施的研究提供支援。

從材料科學到粒子物理學和太空技術,我們的解決方案可創造穩定、乾淨的環境,讓您專注於成果而非裝置。

聯絡我們

為跨學科研究提供動力

無論您是開發下一代半導體,探索量子材料,還是執行高能物理實驗,不同的壓力水平都能滿足特定的研究需求:

  • 粗真空到中真空可支援手套箱、舒倫克線和乾燥等常見實驗室過程。
  • 高真空至超高真空 (UHV) 對表面科學、電漿物理學和低溫研究至關重要。
  • UHV 可在顆粒加速器、表面分析和高能物理學中實現精確操作。

但真空不僅僅是選擇合適的真空泵浦。還必須對系統進行正確連接、精確測量並持續分析。Pfeiffer 提供完整的真空解決方案,從儀器和感應器整合到殘留氣體分析和洩漏偵測,確保您的裝置可靠高效地運作。

研發中的真空應用,從大科學到基礎研究。

粒子加速器

從同步加速器光源到散裂源和自由電子雷射,顆粒加速器需要穩定的超高真空 (UHV) 來維持光束完整性、減少散射並確保結果可重現。即使是壓力或污染的微小波動也會破壞資料或導致代價高昂的中斷。

Pfeiffer 提供專為滿足這些高要求條件而設計的高效能真空解決方案:具有低振動和磁屏蔽的渦輪分子真空泵浦機組,可在輻射區等極端環境中可靠運作;全金屬密封組件可實現長期穩定性;以及診斷工具用於即時壓力監控。我們的系統已在領先的研究設施中久經驗證,專為無縫整合至複雜的模組化光束基礎設施而設計。

合適的產品

深入瞭解加速器
particle_accelerators

適用於太空研究的真空設備

太空模擬需要穩定的高真空至超高真空環境,以高準確度和長期穩定性再現軌道狀態。關鍵挑戰包括盡量減少脫氣、維持均勻的壓力剖線、實現熱循環,以及確保敏感儀器的穩定環境條件。

Pfeiffer 為太空研究提供完全整合的解決方案,結合高效能渦輪泵浦、精密儀器和客製化設計的真空腔體。我們的腔體已針對超低背景污染進行優化,並提供加熱或冷卻選項。此外,這些腔體還採用高品質的表面處理和吸光鍍膜,以模擬太空的黑暗。

我們的技術用於全球主要測試設施,包括與德國航空太空中心 (DLR) 的長期合作關係。

合適的產品

深入瞭解太空模擬
thumb_nail_space_research_drl

必須接受營銷網際網路瀏覽器的記錄標記才能觀看此視頻

Accept marketing-cookies

實驗室真空

實驗室依賴安靜、潔淨且精確控制的真空系統,無論是樣品製備、凍乾還是質譜法之類的分析儀器。關鍵要求包括穩定的壓力控制、低噪音位準和精巧型設計。

Pfeiffer 提供結合無油渦捲式真空泵浦、高真空渦輪泵浦和精密計量表的解決方案。這些技術可在有限的實驗室空間中支援敏感應用,同時確保跨廣泛科學領域領域獲得可靠且可重現的結果。

合適的產品

深入瞭解實驗室真空
thumb_eurofins

必須接受營銷網際網路瀏覽器的記錄標記才能觀看此視頻

Accept marketing-cookies

更多跨研究領域的應用

研究不止於大型安裝或標準實驗室裝置。在許多市場,真空狀態對於維持精確度、穩定性和可重現性至關重要。Pfeiffer 透過解決研究人員面臨的特定挑戰來為這些環境提供支援:

低溫工程

避免熱損失並確保真空絕緣穩定性是低溫和超導體實驗中取得可靠結果的關鍵。

合適的產品

凍乾(冷凍乾燥)

可重現的乾燥結果取決於穩定的壓力控制,特別是在製藥和生命科學研究的關鍵昇華階段。

合適的產品

光子學研究

高精確度光學裝置需要超潔淨、無顆粒的環境。即使是微小的污染,也會破壞光學校準或鍍膜效能。

合適的產品

電漿物理學

在動態實驗循環中產生並維持穩定的電漿狀態需要穩固的真空控制和快速的反應。

合適的產品

中央真空系統

多用戶實驗室和共用研究設施需要在各種應用中提供可靠、一致的真空供應,而不會破壞靈活性或正常運行時間。

合適的產品

預先設定的研究與開發套件

適用於科學與工程的完整、隨時可用的解決方案

我們的研發套件將真空泵浦、控制器、電纜和配件整合到預先配置的套件中,讓安裝快速、可靠且無憂。所有設備都是相互配套的,即使是不熟悉真空的使用者,例如初學者或新客戶,也能立即上手使用。您將受益於:

  • 快速交付:所有產品均有庫存,隨時可發貨
  • 清楚的文件:完整的技術資料和交付範圍一目了然
  • 輕鬆選擇合適的結構尺寸:我們的線上真空計算器將引導您找到合適的裝置
  • 值得信賴:市場上最常用的套件

四種套件系列可滿足您的需求:

渦捲式真空泵浦套件

範圍:粗真空至中真空

無壓力感應器的套件包括無油 HiScroll 渦捲式真空泵浦、電源電纜和排氣消音器。非常適合在標準實驗室環境中安靜、無震動地操作。

帶整合式壓力感應器的套件新增整合式壓力感應器和控制裝置。這讓使用者能夠優化消耗功率,便利地監控真空度,確保更安靜、更有效率、更可靠的效能。

探索 HiScroll 套件

渦輪泵浦套件

範圍:高真空到超高真空(需要單獨的底泵浦,例如 HiScroll)

將 HiPace 渦輪泵浦與底泵浦、電氣控制器、所有接口電纜和裝配配件相結合,非常適合具有靈活整合需求的高真空和超高真空應用。

探索 HiPace 套件

HiCube Neo 套件

範圍:高真空到超高真空(完整解決方案含渦輪泵浦 + 底泵浦)

移動式高真空(HV)和超高真空(UHV)真空泵浦機組,配備 HiPace 渦輪泵浦、底泵浦、完整控制器系統和外殼。提供桌上型或落地式配置。

探索 HiCube Neo 套件

量測套件

真空表可在廣泛的真空範圍內提供精確且穩定的壓力量測。每個套件都結合了 DigiLine 或 ActiveLine 計量表以及 OmniControl 單元和所有必要的電纜,為您提供隨時可用的完整解決方案。

探索 DigiLine 套件 探索 ActiveLine 套件

需要快速比較或想一次查看所有版本?
簡化您的規劃,加速您的裝置,讓您專注於重要的事情:您的研究。

探索我們的套件

我們的研發產品組合

  • ath_m_turbopumps

    渦輪分子真空泵浦

    對於先進研究和工業應用,達到高真空和超高真空度至關重要。

    渦輪泵浦
  • scroll_pump_hiscroll_1

    渦捲式真空泵浦

    無油底泵浦是實驗室和精巧裝置清潔、安靜運作的理想選擇。

    渦捲式泵浦
  • diaphragm_pumps_mvp_neo

    膜片泵浦

    精巧、易於操作,非常適合過濾或脫氣這類粗真空應用。

    膜片泵浦
  • multi_stage_roots_vacuum_pump_acp_90

    多級魯式真空泵浦

    低壓下的高抽氣速率,非常適合高要求的粗真空製程。

    多級魯式泵浦
  • asm_390_392_leak_detector

    測漏儀

    即使最小的洩漏也能快速定位,確保系統完整性和正常運行時間。

    測漏儀
  • omnistar_mass_spectrometer

    質譜儀

    精確的氣體分析可用於先進研究和污染監控。

    質譜儀
  • hicube_neo_rga_stage

    殘餘氣體分析儀 (RGA)

    使用質譜儀即時監控氣體組成,以保障製程穩定性和純度。

    殘餘氣體分析儀 (RGA)
  • vacuum_chambers

    真空腔體

    模組化或客製化的腔體,專為研發中的實驗需求量身打造。

    真空腔體
  • vacuum_valves_1

    閥門

    用於研究級真空裝置中的精確流量控制和隔離。

    真空閥門
  • digiline_hpt_1

    計量表

    從大氣壓力到 UHV 的精確壓力量測。

    真空表
  • turbo_vacuum_pump_units_hicube

    真空泵浦機組

    預先設定的隨插即用系統,實現快速靈活的實驗室整合。

    真空泵浦機組
  • pvweb_88__ct_tw_h_open_767x430pix

    氣體減排系統

    去除有害的排氣,確保實驗室空氣乾淨且符合規定。

    氣體減排系統

用於先進研究的促成技術

Pfeiffer 在複雜的研發環境中支援真空系統的操作和整合。為了確保可靠的結果,在您的裝置中需要盡早考慮幾個因素。其中包括:

  • 超高真空狀態的充分理解
  • 使用殘餘氣體分析深入了解系統
  • 以及洩漏偵測的關鍵作用。
  • 超高真空 (UHV)

    達到 UHV 是許多先進研究應用的前提條件,從表面科學和電子顯微鏡到光束實驗。創造這種狀態不僅需要高效能真空泵浦,還需要正確的材料、密封、腔體設計和烘烤流程。

    Pfeiffer 提供完整的 UHV 解決方案,包括優化的泵浦系統、乾淨的裝配工藝以及工程專業知識,幫助您達到並維持超高真空。

    合適的產品

    深入瞭解產生超高真空

    pvweb_221_allapplicationmotifs_794x390_ion_thruster_chamber
  • 真空系統的洩漏偵測

    洩漏通常存在於密封、法蘭或熔接處。如果未偵測到,可能會妨礙您的系統達到研究所需的真空度,或延遲關鍵實驗,特別是在高真空和超高真空狀態下。因此,快速可靠的定位對於確保系統準備就緒至關重要。

    Pfeiffer 為您提供以氦氣為基礎的洩漏偵測解決方案,包括噴霧方法,以確保您的系統是密封的、乾淨的,且準備好投入運行。

    合適的產品

    探索我們的真空洩漏偵測解決方案

    pvweb_221_allapplicationmotifs_1200x675_001_shutterstock_383902150
  • 殘餘氣體分析 (RGA)

    RGA 可協助您即時監控真空中的成分,偵測可能影響您的結果的污染、脫氣或不必要的反應。這種深入瞭解對於高要求研究中的穩定操作和可重現性至關重要。

    Pfeiffer 的 RGA 系統受到大學實驗室和高精確度裝置的信賴,確保真空環境的可控性、透明度和可信度。

    合適的產品

    探索我們的 RGA 研究解決方案

    pvweb_221_allapplicationmotifs_794x390_residual_gas_analysis

常見問題

真空技術在研究與開發中的作用?

真空技術在研發中至關重要,可創造乾淨、穩定的環境,將實驗與環境氣體、水蒸氣和反應性氣體隔離。這種受控的設定可實現精確的量測、更高的可重現性以及無污染的製程。真空系統可確保實驗結果不會受到背景干擾的破壞。例如:

  • 顆粒加速器需要超高真空,以減少光束散射。
  • 電漿研究需要在快速製程循環中保持真空穩定性。
  • 材料科學在鍍膜、蝕刻和表面分析過程中仰賴真空。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 透過提供可靠的整合式真空設備來支援這些應用,從真空泵浦和腔體到檢漏儀和氣體分析工具。

不同的真空度有哪些,如何在研發中使用它們?

真空環境按壓力位准分類。每個範圍支援不同的研發應用:選擇正確的真空範圍對於系統完整性和實驗可重現性至關重要。Pfeiffer 為所有真空範圍提供解決方案。

真空度
壓力範圍
典型應用
粗真空
1013–1 hPa
手套箱、過濾、真空乾燥
中真空
1-10⁻³ hPa
凍乾,分析準備
高真空
10⁻³–10⁻8 hPa
超高真空 (UHV)
10⁻8–10⁻¹² hPa
低溫工程、光束線、太空模擬、表面科學、加速器
極高真空 (XHV)
<10⁻¹² hPa
核/粒子物理學、天文物理學

如何選擇適合我的研究的真空泵浦?

真空泵浦的選擇取決於製程類型、氣體負載和所需的壓力範圍。考慮:

  • 應用需求:需要什麼真空度,粗真空、高真空或超高真空?
  • 真空泵浦相容性:與真空腔體結構尺寸、氣體類型、氣體負載和脫氣行為相符。
  • 真空泵浦技術:
    ○ 適用於 UHV 和快速循環實驗的渦輪泵浦
    ○ 適用於乾淨無油的實驗室環境的乾式底泵浦(如渦捲式膜片泵浦
    ○ 適用於一般用途的回轉葉片真空泵浦
    ○ 適用於加速大體積抽空或處理高氣體負載的真空助力器

使用我們的線上
真空計算器來比較泵浦型號,探索效能曲線,並在幾分鐘內設定您的理想系統。

想要指導嗎?觀看我們的真空泵浦選擇網路研討會完美匹配:如何找到長期適用的真空泵浦」,以更好地瞭解真空技術和應用適配性。

此外,我們的真空專家隨時準備為您的研發裝置配置最佳真空系統。

聯絡我們

如何在敏感的實驗中保持真空系統乾淨可靠?

如果您在高真空或超高真空條件下工作,保持真空系統乾淨且密封不只是值得擁有,而是絕對必要。以下是一些小提示,可幫助您保持正常運行:

一開始就清潔並保持清潔

  • 安裝前務必擦拭組件,清除指紋、油和灰塵。
  • 如有可能,避免使用真空潤滑油脂。金屬密封(如 CF 法蘭)通常是更好的選擇。
  • 處理任何進入系統的物質時,請使用無粉手套

請勿忽略烘烤
  • 如果您追求 UHV,請在使用前烘烤您的系統。這樣可以排出水分並減少脫氣。
  • 視裝置而定,最高可達 300 °C,為獲得最佳結果,請在真空環境下緩慢進行。

使用正確的材料
  • 選擇低脫氣材料和光滑表面。避免使用任何多孔或塑膠,除非其被認為適用於真空。
  • 金屬密封組件可提供更長期的穩定性,特別是當您的系統全天候運行時。

留意是否有隱藏的洩漏

進行校準,別靠猜測

  • 定期檢查您的真空表,因為漂移可能會悄然發生。
  • 確保您的壓力讀數和實際系統效能仍然相符。

這些小步驟有助於保持裝置穩定、資料潔淨,並將停機時間降至最低。

Pfeiffer Vacuum+Fab Solutions 能否為複雜的研發專案提供量身打造的真空系統?

當然可以。無論您是在大學實驗室中進行實驗、在先進製造中開發原型,還是操作粒子物理學的光束線裝置,客製化都很重要。

Pfeiffer 開發專為您的精確製程需求和整合限制量身打造的真空系統。從早期概念到完整設計的系統,我們的專家與研究機構和工業部門的科學家、工程師和技術負責人密切合作,開發真正適合的真空技術。

聯絡我們

真空技術在材料科學研究中有何作用?

材料科學在高度依賴真空條件來研究表面、製備薄膜,以及分析原子層面的材料行為。無論您是進行濺鍍CVD 還是先進的顯微鏡檢查,維持乾淨、穩定的真空系統,對於可重現性和精確性至關重要。

我們的系統支援:

  • 表面和薄膜分析(XPS、AES、STM)
  • 清潔沉積環境(PVD、ALD)
  • 電漿強化製程和鍍膜

Pfeiffer 透過優化的真空泵浦、腔體和即時儀器,幫助研究人員突破材料的極限。

Pfeiffer 的解決方案如何支援研究中的真空測試和品質保證?

真空測試不僅僅用於系統驗證。它對於維持光子學太空模擬電漿研究之類的高精度應用的製程完整性至關重要。我們提供:


這些工具有助於減少停機時間、及早發現問題並確保符合品質標準。

真空技術的創新發生在何處,誰在推動創新?

真空技術的創新並非來自一個單一行業。它發生在廣泛的行業和研究領域,由每天應對複雜挑戰的科學家、工程師和製造團隊推動。

這裡是我們的解決方案助力創新向前發展的地方:

  • 航空太空技術
    用於測試衛星、模擬軌道狀態,並在極端環境中推動新材料
  • 製藥與生命科學
    適用於冷凍乾燥、無菌包裝和蛋白質結晶化的無污染環境
  • 大學實驗室和國家研究中心
    在這裡進行材料科學電漿物理學表面分析的基礎性發現
  • 半導體與先進製造
    透過快速、穩定的整合式真空裝置,支援精密製造

無論您在哪個行業,我們都能協助您填補理念和實施之間的差距,將真空專業知識與實際應用需求相結合。

為何選擇 Pfeiffer 用於您的研究需求?

Pfeiffer 是一家專注於推動跨行業創新的公司,不僅提供高端產品,而且在配置和擴充真空系統方面也具有實際優勢。無論您是學生、科學家還是進階使用者,我們的解決方案都能滿足您的市場要求。

從真空基礎知識開始或獲得專家見解。

真空基礎知識影片